Occasion PVA TEPLA 650 #9246616 à vendre en France

PVA TEPLA 650 est un équipement de photorésistance à base liquide développé pour permettre la production de micro-caractéristiques sur les surfaces des dispositifs et composants utilisés dans les industries microélectronique, pharmaceutique et optique. C'est une technologie de photorésistance avancée et peu coûteuse qui permet l'imagerie de caractéristiques photosensibles avec une précision et une résolution extrêmement élevées. 650 est conçu pour fournir des performances supérieures dans une variété d'applications d'imagerie. Il a un haut niveau de sensibilisation jusqu'à PVA TEPLA 650 nanomètres, ce qui lui permet de rendre précisément même les plus petites micro-caractéristiques, y compris les vias, tranchées, plots de montage de surface et autres éléments montés en surface. Sa viscosité élevée offre également une meilleure couverture, assurant l'impression précise de chaque micro-caractéristique. Le système photorésist est spécifiquement conçu pour offrir un haut niveau de photostabilité et de performance. Il est formulé avec des composés spécialement conçus qui offrent une excellente robustesse et résistance à l'exposition environnementale pendant le processus de photoimagerie. De plus, le matériau est conçu pour être thermiquement stable, évitant qu'il ne se ramollisse ou ne se dégrade lors d'une exposition à la chaleur. Cela garantit que le processus de photoimagerie est de qualité constante, même avec de longs temps d'exposition, permettant d'imprimer avec précision les micro-caractéristiques. La résine photosensible est facile à appliquer sur le substrat et est conçue avec des cycles de post-nettoyage plus rapides pour minimiser les temps d'arrêt. Il est chimiquement compatible avec les agents de traitement les plus couramment utilisés, et est conçu pour être résistant aux solvants et aux etchants utilisés dans le procédé de lithographie. De plus, l'unité est certifiée écologique et répond aux normes les plus strictes en matière d'émissions. 650 est une machine de photorésistance avancée conçue pour permettre la production de micro-caractéristiques avec une résolution très précise. La photorésist a une sensibilité et une stabilité thermique élevées, fournissant des performances améliorées dans une variété d'applications d'imagerie. Il est également conçu avec une excellente robustesse, offrant une durabilité et une résistance supérieures aux facteurs environnementaux. En outre, son procédé de post-nettoyage rapide et sa compatibilité avec de nombreux agents de traitement couramment utilisés fournissent un outil photochimique efficace et fiable.