Occasion PVA TEPLA 650 #9261168 à vendre en France

PVA TEPLA 650 est un système photorésist innovant conçu pour des applications avancées de semi-conducteurs. Il s'agit d'un photorésist mono-composant, pré-mélangé, à fort contraste, qui est enrobé sur une plaquette de silicium ou autre substrat. La résistance fournit une couche inférieure anti-reflets (BARC) qui permet de modeler rapidement et de façon fiable de plus petites caractéristiques avec une résolution plus fine. La résine est composée d'alcool polyvinylique (APV) contenant un mélange spécial de tensioactifs et de catalyseurs conçus pour optimiser l'adhérence et les caractéristiques de gravure. Le système photorésist dispose de capacités de haute résolution et est pré-mélangé avec une concentration optimale d'alcool polyvinylique, permettant un enrobage de spin avec consistance et reproductibilité. Les caractéristiques de gravure de la résine sont optimisées pour un rendement maximal dans les procédés de photolithographie, permettant de transférer des motifs de haute fidélité sur des plaquettes. 650 resist offre plusieurs avantages de performance. Il a un film photorésist épais et est plus robuste que la plupart des résistances positives et négatives standard. La durée de conservation thermique de la résine est également supérieure, ce qui lui permet de rester stable pendant de longues périodes à haute température. Il est bien adapté aux procédés de gravure à sec et offre une résistance à la gravure plus élevée que les autres photolréistes standard avec des performances BARC similaires. Par ailleurs, la photorésist PVA TEPLA 650 est également conçue pour être compatible avec différents procédés. Il a été testé pour garantir une large compatibilité avec différents processus de résistance, tels que l'ultraviolet profond (DUV) et la lithographie ultraviolette extrême (EUV). Il peut également être utilisé dans une variété de processus de gravure, y compris la gravure profonde, gravure ionique réactive profonde, gravure plasma et gravure humide profonde. 650 photorésist est une solution avancée pour l'industrie des semi-conducteurs, fournissant un traitement rapide, fiable et précis des petites caractéristiques. Il offre une large compatibilité avec divers procédés de fabrication de puces et offre des performances supérieures telles que la durée de conservation thermique prolongée et des caractéristiques de gravure et d'adhésion améliorées. Le système de résistance est idéal pour ceux qui ont besoin d'un outil fiable pour créer des modèles de haute précision sur les petites tailles de fonctionnalités.