Occasion RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A #293643207 à vendre en France

INSTITUT DE RECHERCHE DU CETC BG-401A est un équipement de photorésistance très avancé conçu pour permettre le transfert précis de motifs sur des substrats semi-conducteurs et en verre. Photoresist est un matériau sensible à la lumière qui est utilisé pour réaliser des motifs de haute précision dans les dispositifs gravés, tels que les circuits intégrés. Il fonctionne en créant une réaction chimique lorsqu'il est exposé à la lumière. BG-401A rationalise le processus de photorésistance pour une gamme de matériaux, tels que le germanium, le silicium et le polyimide, avec un haut degré de résolution et de précision. Le système est optimisé pour l'imagerie de tolérance serrée avec un haut débit dans l'imagerie de modèle. Il est équipé de deux têtes de balayage laser parallèles, chacune fournissant une onde continue d'énergie laser, permettant de traiter rapidement de grandes zones de balayage. Le logiciel intégré de traitement d'image effectue un traitement d'image avancé pour s'assurer que les modèles sont correctement transférés aux substrats, permettant des rendements élevés avec un minimum de retravaillement et de rebuts. INSTITUT DE RECHERCHE DU CETC BG-401A résout également la question des rejets plasmatiques, un problème courant dans les systèmes de photorésistance qui peut causer des gravures incohérentes et des irrégularités. Son unité de focalisation dynamique des gaz unique permet de supprimer la décharge de plasma en veillant à ce que le faisceau laser atteigne à chaque fois le point exact de la résistance. Plus efficace et plus simple que les photomasques traditionnels, BG-401A est une alternative puissante pour les résistances à la résistance. Ses parois latérales résistantes à l'arc assurent une plus grande homogénéité des résidus, assurant des performances plus fiables et répétables. Ses caractéristiques thermodynamiques, telles que ses capacités à haute température, assurent que la résistance chauffée se comporte de façon prévisible pendant le processus d'imagerie, fournissant des résultats cohérents à chaque fois. La plate-forme réglable verticalement et horizontalement offre une flexibilité supplémentaire, permettant de traiter avec précision des substrats de tailles et de formes variables. La machine est également équipée d'une interface de fonctionnement visualisée et d'une fonction d'échange rapide multicouche. Cette fonction sélectionne automatiquement et rapidement des couches du même matériau, ce qui élimine la nécessité de régler manuellement le motif à chaque fois. Dans l'ensemble, RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A est un outil de photorésistance avancé conçu pour faciliter, accélérer et renforcer la fiabilité du processus de fabrication. Avec ses fonctionnalités avancées, il fournit une solution simplifiée et rentable pour fabriquer des modèles de haute précision dans des dispositifs nécessitant des changements de modèles de temps en temps. Il est idéal pour toute application qui a besoin de motifs complexes, précis et fiables pour être produit.