Occasion RHETECH STI 280 #17375 à vendre en France

RHETECH STI 280 est un équipement de photorésistance développé par RHETECH Technologies. Il s'agit d'un système complet comprenant les logiciels, le matériel et les consommables associés. L'unité se compose d'un ensemble de projection, d'une source UV et d'un masque sensible à la lumière. L'ensemble de projection a une conception à trois ouvertures qui permet de multiples couches de masque sensible à la lumière. La source UV délivre jusqu'à 5 watts de lumière UV intense qui peut être utilisé pour générer des images d'ombre sur le masque. Le masque est un polymère hautement spécialisé, cohérent et stable, sensible à la lumière UV. Le masque est conçu pour être utilisé plusieurs fois avec les mêmes performances. Lors de l'exposition à la lumière UV, les zones exposées du masque deviennent insolubles et non réactives, ce qui facilite la gravure. Le logiciel associé pour la machine est puissant et intuitif qui permet de concevoir l'entrée, la validation et la simulation des processus d'imagerie. Le logiciel peut également fournir un aperçu en temps réel de l'ensemble de la conception afin de vérifier le processus d'imagerie. Avec cette fonction de prévisualisation en temps réel, l'utilisateur peut ajuster les paramètres pour améliorer les résultats d'imagerie. Le logiciel permet également la génération automatisée de motifs. Cela permet de réduire le temps nécessaire à la conception des photomasques et d'améliorer la précision des motifs générés. Les consommables de l'outil comprennent le masque sensible à la lumière qui est utilisé pour l'exposition et le développement. Le masque est conçu pour avoir une performance optique et une résistance à l'adhérence optimales. Afin d'optimiser les performances, les normes de processus recommandées doivent être respectées, comme l'utilisation d'un film conçu pour une intensité de source spécifique, l'utilisation de techniques de manipulation sans contact et l'utilisation de solutions de développement de liquide appropriées à l'application. STI 280 est un actif photorésistant avancé qui fournit une solution rentable et efficace pour la production à petite et moyenne échelle. Sa haute performance et sa conception conviviale en font un excellent choix pour des applications telles que la photolithographie, les motifs d'imprimante et les cartes de circuit. Sa conception polyvalente le rend également adapté à une large gamme d'applications d'imagerie.