Occasion RHETECH STI 280 #9292510 à vendre en France

RHETECH STI 280
Fabricant
RHETECH
Modèle
STI 280
ID: 9292510
Taille de la plaquette: 6"-8"
Automatic stacker system, 6"-8" Process: DI Spin and dry N2 DI and N2 for test, 6" Full control.
L'équipement de photorésistance RHETECH STI 280 est un système innovant utilisé dans la création de dispositifs semi-conducteurs. Cette unité est composée de deux parties : une machine de traitement humide, et un outil de gravure plasma. L'actif de traitement par voie humide utilise une variété de procédés chimiques liquides pour le dépôt, le développement et l'élimination de la résine photosensible. Le modèle de gravure plasma fonctionne pour graver la résine photosensible afin de mouler la conception désirée dans le substrat. Le but de l'équipement de traitement humide est de déposer de la résine photosensible sur un matériau substrat. Cela se fait par une série de procédés chimiques, tels que le spin, le spray, le trempage et le dépôt sous vide. Ces procédés travaillent ensemble pour appliquer une couche uniforme de photorésist sur le matériau. Une fois la photorésist appliquée sur le substrat, un photomasque est utilisé pour créer un motif sur la photorésist. Le masque est alors exposé à la lumière, et active la photorésist où la lumière pourrait l'atteindre. Les zones exposées deviennent plus solubles et peuvent être éliminées avec un solvant approprié. La résine photosensible dans les zones non exposées reste intacte, et reste dans son état d'origine. Le système de gravure plasma est alors utilisé pour graver la résine photosensible du substrat afin de réaliser la conception souhaitée. Pour ce faire, on expose le substrat à un plasma contenant un gaz réactif approprié. Le gaz réagit avec la photorésist exposée pour former des radicaux, qui attaquent ensuite la photorésist dans les zones sélectives. L'unité de photorésistance STI 280 est un outil important pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette machine permet de créer des dispositifs selon des spécifications précises, sans risque de contamination ou de saignement. C'est un outil fiable et abordable pour produire des composants semi-conducteurs de haute qualité.
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