Occasion RITE TRACK SVG 88 #293592399 à vendre en France

RITE TRACK SVG 88 est un équipement de photorésistance conçu pour être utilisé dans l'industrie de la microélectronique. C'est un outil en une seule étape pour la production fiable de très petites lignes d'interconnexion avec une largeur minimale de 0,3 μ m (micromètres) et une précision élevée réalisable à une vitesse de production finement ajustée. Le système fonctionne en exposant le matériau résistant à la lumière UV par un processus de microlithographie. La lumière UV est absorbée dans les résistances, activant des sites réactifs qui durcissent la résistance dans les motifs gravés. Ce procédé de traitement conduit à des couches très précises qui peuvent être facilement intégrées dans un circuit. L'unité est conçue en deux étapes : photolithographie et gravure. En photolithographie, on utilise un photomasque pour définir le motif désiré dans la résine. Le masque est un mince morceau de verre recouvert d'un matériau sensible à la lumière. Le matériau sensible à la lumière est ensuite exposé à la lumière UV, qui irradie le matériau, l'activant et provoquant le développement du motif désiré. Le motif créé sur la résine est ensuite transféré sur le matériau du substrat. Dans le procédé de gravure, le motif de photorésist est ensuite transféré sur le matériau du substrat en utilisant un gaz réactif ou chimique. Selon le matériau utilisé dans le substrat, différentes méthodes de gravure peuvent être utilisées. Par exemple, une gravure ionique réactive (RIE) peut être utilisée pour des matériaux diélectriques, une gravure par faisceau d'ions pour des films métalliques et une gravure plasma pour des films organiques et résistifs. Comme RITE TRACK 88 est un processus en une seule étape, les étapes de photorésistance et de gravure sont complétées simultanément afin de produire des lignes d'interconnexion très précises de très petite taille. L'usage de machine SVG88 fournit aux utilisateurs plusieurs avantages, puisqu'il offre la grande exactitude, un processus plus efficace et rentable et la flexibilité améliorée. En outre, il permet la production de lignes plus petites et de composants aux dimensions plus serrées, qui peuvent être utilisés pour créer des conceptions plus complexes. Cet outil est couramment utilisé dans la fabrication de cartes de circuits imprimés, de dispositifs semi-conducteurs et de MEM, et est de plus en plus populaire dans l'industrie électronique moderne, car il facilite la production efficace de composants très précis et précis.