Occasion RITE TRACK SVG 8826 / 8836 #9209021 à vendre en France

RITE TRACK SVG 8826/8836 est un équipement de photorésistance conçu pour des applications en photolithographie de processus. La photolithographie est un procédé utilisé dans la fabrication de circuits intégrés et de photomasques nanométriques. Le dispositif est composé d'une unité d'exposition, d'un photomasque, d'un porte-masque en aluminium et d'une étape de positionnement. L'unité d'exposition de SVG 8826/8836, qui est équipée d'un éclairage par faisceau d'électrons ultra-lumineux, facilite les images haute résolution avec une exposition cohérente dans la gamme de sous-microns. Cela permet le développement de photomasques de procédé haute densité et une fabrication microélectronique précise. Il dispose également d'un système d'alignement optique intégré qui permet un positionnement rapide et précis de l'image. La photomasque de RITE TRACK SVG 8826/8836 est faite d'un verre au sol en silicium sensible aux UV et à l'irradiation par faisceau électronique, ce qui permet des images et des alignements à haute résolution. Le porte-masque en aluminium est conçu pour stocker et transporter des photomasques en toute sécurité. Le support est également équipé de caractéristiques qui minimisent les contraintes mécaniques, ce qui garantit que la surface du masque est lisse et plate pour une meilleure définition des caractéristiques photomasques. Enfin, l'étage de positionnement et la table de balayage X-Y permettent un alignement et une mise au point rapides et précis pour faciliter une fabrication cohérente et précise des composants microélectroniques. La table de balayage est entraînée par des vis à billes de précision, tandis qu'une unité de commande en boucle fermée fournit un retour à la table de balayage. Cette conception garantit un repositionnement précis et un alignement correct du photomasque avec l'unité d'exposition. Dans l'ensemble, SVG 8826/8836 est une machine de photorésistance précise et fiable, fournissant des images de haute résolution à une exposition de faible à moyenne portée. Avec sa précision de position rapide et précise ainsi que son unité d'exposition fiable, il est un choix idéal pour tout processus de fabrication de microélectronique.