Occasion S CUBED / S3 TX535C #9179981 à vendre en France

S CUBED/S3 TX535C est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour un large éventail de procédés de fabrication de photos. Il est composé d'une puissante source de rayonnement de courte longueur d'onde, d'un étage de plaquette pour le positionnement du substrat et d'un système de manutention automatisé de la résine photosensible. L'unité est capable de fournir une résolution de substrat de 20nm et des tailles de 1,0 micron. La source de radiation utilisée dans S3 TX535C est une « longueur d'onde courte hyper » excimer le laser, qui tient compte d'une gamme de longueur d'onde de 200 nanomètres à 350 nanomètres. Le laser peut générer des impulsions jusqu'à 460 nanosecondes de longueur, donnant une résolution spatiale aussi petite que 20 nanomètres. De plus, le laser est capable de contrôler la forme d'onde de chaque impulsion, ce qui permet un excellent contrôle de la répartition d'intensité du faisceau laser. L'étage de wafer de S CUBED TX535C dispose d'une machine de réglage motorisée XYZ et d'un outil de stabilisation de la température, qui permettent un positionnement précis et fiable du substrat. Il présente également un atout d'amortissement des vibrations pour assurer que le substrat reste stable pendant le processus de photorésistance, et peut accueillir des substrats jusqu'à 8 "de diamètre. Le modèle de manutention automatique de TX535C est ce qui aide à rendre le processus si efficace et cohérent. Il charge, aligne et décharge la photorésist via un bras robotique automatisé pour assurer la précision et réduire l'erreur humaine. L'équipement est également conçu pour suivre les performances de chacun de ses composants, en veillant à ce qu'ils produisent constamment les résultats souhaités. En conclusion, S CUBED/S3 TX535C est un système de photorésistance avancé conçu pour offrir des résultats cohérents à des résolutions aussi petites que 20 nanomètres. Sa combinaison d'un laser excimère à courte longueur d'onde, d'un étage avancé de plaquettes et d'une unité de manutention automatisée en font un outil puissant pour des processus photorésistants fiables.