Occasion S CUBED Scene 8 #9251777 à vendre en France
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Un équipement de photorésistance, tel que S-CUBED S CUBED Scene 8, est un type spécifique de photolithographie qui est principalement utilisé pour créer des caractéristiques ultra-fines sur des composants ou circuits nanométriques. Il est souvent utilisé pour des applications complexes de haute fiabilité telles que la création de circuits photoniques ou intégrés. La photolithographie commence typiquement par l'application d'un film photosensible organique, tel que la scène S-CUBED 8, sur un substrat. Le film photosensible est exposé à la lumière ultra-violette pour définir les structures les plus fines. Les zones exposées et non exposées du film photosensible sont ensuite éliminées soit avec un révélateur chimique, soit par gravure. Le système photorésist S-CUBED S CUBED Scene 8 est conçu pour créer des caractéristiques ultra fines avec une imagerie haute fidélité. Les principales caractéristiques de l'appareil sont sa maniabilité exceptionnelle en largeur de ligne et sa distorsion d'imagerie extrêmement faible. La machine utilise des techniques de fabrication multicouche et d'imagerie avancées pour permettre une résolution de contraste élevée sans sacrifier la précision ou la vitesse. Pour des caractéristiques ultra fines, l'outil S-CUBED Scene 8 utilise une combinaison de techniques de formation d'images aériennes et de démagnification. Cela signifie que la taille réelle de la caractéristique est réduite au fur et à mesure qu'elle traverse les lentilles. Ce procédé assure le plus haut niveau de précision possible. Tout cela est encore renforcé par les multiples couches du film photorésiste, qui permettent l'imagerie haute fidélité sans sacrifier la résolution. L'actif S-CUBED S CUBED Scene 8 supporte plusieurs couches de film pour permettre des géométries complexes. Les épaisseurs de couche peuvent être soigneusement contrôlées pour assurer les meilleurs résultats. Le modèle offre également un certain nombre d'options de modélisation différentes, y compris la résistance positive et négative au développement et à l'imagerie haute vitesse. La grande variété de fonctionnalités et d'options offertes par la scène S-CUBED 8 en fait un choix attrayant pour les fonctionnalités ultra-fines et la fabrication de circuits miniatures. L'équipement S-CUBED S CUBED Scene 8 est très fiable et capable de fournir des résultats de haute précision. Le système présente plusieurs autres avantages, dont sa faible distorsion d'imagerie et sa capacité de traitement à grande vitesse. L'utilisation de l'unité S-CUBED Scene 8 lors de la création de fonctionnalités ultra fines et de circuits miniatures est inestimable pour des applications telles que la création de circuits photoniques ou intégrés. La machine peut aider à optimiser le processus de fabrication, permettant des résultats de la plus haute qualité possible.
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