Occasion SANYU HO-2 #293643652 à vendre en France

SANYU HO-2
Fabricant
SANYU
Modèle
HO-2
ID: 293643652
Style Vintage: 2000
Sputtering system 2000 vintage.
SANYU HO-2 est un équipement de traitement des photorésistances conçu pour améliorer les propriétés des matériaux photorésistants. Ce système est conçu pour graver, développer et durcir rapidement les matériaux, ce qui le rend idéal pour les applications semi-conductrices. HO-2 utilise trois étapes : la gravure, le développement et le durcissement. Pendant la phase de gravure, le matériau photorésist est chauffé et exposé à un plasma à base de gaz. Ce procédé produit une réaction qui attaque certaines zones du matériau photorésist, ce qui conduit à un motif qui peut être utilisé pour créer une structure ou un circuit. La phase de développement de SANYU HO-2 utilise un plasma à basse température pour éliminer le matériau photorésistant restant. Ce procédé particulier permet de réduire la quantité de résidus produits, créant ainsi une structure plus précise. La phase finale protège le motif désiré en durcissant le matériau photorésist avec des lampes ultra-violettes. HO-2 bénéficie d'un temps de traitement réduit par rapport à d'autres systèmes qui utilisent des traitements chimiques pour réaliser les mêmes phénomènes. Il fonctionne entre 20 ° C et 50 ° C, ce qui le rend idéal pour les applications avec des exigences de température strictes. En outre, cette unité offre une sécurité accrue en raison de son manque de gaz ou de produits chimiques toxiques. SANYU HO-2 est efficace pour produire des structures et des circuits avec une variété de matériaux, y compris photorésist et autres photomasques d'imagerie. Cette machine optimise la résolution, offre un contrôle précis de l'épaisseur et du profil des films photorésistants, et est capable de fournir un temps d'exécution rapide. En conclusion, HO-2 est un outil de traitement photorésist conçu pour graver, développer et guérir rapidement les matériaux. Il est adapté aux applications semi-conductrices en raison de son plasma à basse température et de son procédé de durcissement ultra-violet. Il offre une sécurité accrue, un temps de traitement réduit et une résolution précise par rapport aux autres systèmes.
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