Occasion SAUNDERS 5400S #9106451 à vendre en France

SAUNDERS 5400S est un équipement de photorésistance conçu pour améliorer la précision des photomasques à diverses fins industrielles. Il prend en charge plusieurs processus de lithographie numérique, tels que l'exposition basée sur les processus, le transfert d'image de masque numérique, le film sec résistent à la stratification et l'optimisation de l'imagerie. C'est la solution parfaite pour développer des photomasques qui fournissent des résultats extrêmement précis et réussis. L'unité utilise une technologie avancée de photo-imagerie qui utilise une résolution plus élevée, des performances d'imagerie plus stables, et une épaisseur de couche accrue pour les régions blindées de champ sombre. Les technologies d'exposition garantissent également une grande précision pour le transfert d'image, tandis que le matériau photorésist permet l'imagerie avec de faibles défauts. De plus, la technologie d'alignement des faisceaux du système réduit les effets du désalignement et améliore la qualité de l'image. 5400S offre une variété d'avantages pour les applications de lithographie, y compris une productivité accrue, des économies de coûts, une meilleure qualité et une fiabilité accrue. Par exemple, son débit élevé permet de produire rapidement des centaines de masques en une journée. Cela réduit les coûts et le temps, tout en assurant un rendement et une performance excellents. Le choix entre un processus manuel et un processus automatisé permet à l'utilisateur de profiter de l'amélioration de la productivité lorsque désiré. L'unité permet à l'utilisateur de profiter des fonctionnalités avancées de l'image-optique, telles que les technologies d'amélioration des bords. Cela donne à l'utilisateur la possibilité de créer des masques complexes qui nécessitent un alignement et des détails supérieurs. La machine est également livrée avec des capacités de poursuite de faisceau d'alignement pour maintenir les masques en évidence et avec des épaisseurs uniformes. SAUNDERS 5400S est équipé d'outils de diagnostic avancés, tels que la spectrométrie UV/Vis et les mesures de diffraction des rayons X, ainsi que d'une variété de capacités de surveillance des processus et de paramètres pour des applications de lithographie améliorées. Le dispositif de poursuite de faisceau en option permet également aux utilisateurs de contrôler la précision du faisceau tout en maintenant une bonne focalisation. 5400S convient à toute une gamme d'industries, y compris les semi-conducteurs, les dispositifs médicaux, les opto-électroniques et les conceptions de puces. C'est une solution idéale pour utiliser des solutions de photolithographie pour des photomasques de haute précision et rentables. Sa vitesse, sa précision et son évolutivité supérieures en font une excellente option pour ceux qui recherchent un outil de production de photomasques.