Occasion SCL CD 400 #9022280 à vendre en France

L'équipement de photorésistance SCL CD 400 est un outil puissant utilisé pour la production de structures semi-conductrices complexes. Il est conçu pour créer des structures complexes avec de petites tailles de caractéristiques grâce à la résolution précise des résistances et la profondeur et la largeur précises qui peuvent être atteints. Le système est utilisé dans le procédé lithographique, par lequel un procédé d'exposition à la lumière et de gravure est utilisé pour transférer un motif de masque sur un substrat tel qu'une plaquette de silicium. L'unité de photorésistance CD 400 est composée de plusieurs composants, dont un pas de photolithographie, un radiomètre, une machine de masquage et un outil de chauffage. Le stepper utilise un atout d'optique d'imagerie, qui comprend une source de lumière, des lentilles, des miroirs et des filtres pour projeter avec précision le motif de masque sur le substrat. Le radiomètre est utilisé pour mesurer la quantité d'exposition à la lumière et pour surveiller les expositions sur plusieurs cycles de processus. Le modèle de masquage est composé de filtres à lumière, de masques d'alignement et d'un porte-masque. Enfin, l'équipement de chauffage est composé d'une plaque chauffante et d'un four, qui sont utilisés pour régler et maintenir avec précision la température du substrat lors du traitement. SCL CD 400 utilise une résine photosensible aux rayons ultraviolets. La résine photosensible est appliquée sur le substrat et le masque est projeté sur celui-ci. Le rayonnement de la source lumineuse et du système d'optique d'imagerie est transmis à travers le masque sur la résine photosensible et la résine se dissout partout où la lumière le frappe. Après avoir exposé le motif sur la résine photosensible, un four post-exposition est fait, qui met le motif dans la résine et le prépare à la gravure. Les résines utilisées dans le CD 400 ont une capacité d'épaisseur très précise allant dans les dizaines de nanomètres. L'unité d'optique d'imagerie et le radiomètre ont une résolution de 0,5 micron, ce qui est capable de créer des conceptions avec des tailles de fonctionnalités allant jusqu'à 0,5 microns en largeur et en profondeur. Cela permet de créer des géométries très complexes qui seraient impossibles en utilisant d'autres méthodes de lithographie. La photorésistance SCL CD 400 fournit un outil fiable et précis pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est très polyvalent en termes de résolution, de profondeur et de largeur, et offre une plate-forme puissante pour les ingénieurs et les scientifiques pour développer des modèles de plus en plus complexes et complexes.