Occasion SCL CD 400 #9102037 à vendre en France

SCL CD 400 est un équipement de photorésistance qui est conçu pour produire des caractéristiques à haute résolution et à motifs pour une grande variété d'applications, telles que les micropuces, les systèmes microélectromécaniques ou d'autres procédés lithographiques. Le système se compose de deux composants principaux : une source lumineuse et une plaque d'exposition. La source lumineuse est conçue pour fournir une gamme de longueurs d'onde de 300-400nm, afin de produire un contraste optimal et des caractéristiques sur la couche de résine photosensible pendant le processus d'exposition. La plaque exposée a un motif de grille précis sur sa surface qui permet l'enregistrement précis du motif lorsque la source lumineuse est focalisée sur la plaque. Les composants optiques du CD 400 se composent d'une lentille de focalisation, qui crée une tache extrêmement petite sur la surface de la plaque exposée pour une exposition précise au motif. La lentille est conçue pour focaliser la lentille profonde ultraviolette (DUV) dans un petit faisceau pair qui est placé sur la plaque de résistance. La lumière d'exposition est ajustée pour le niveau d'éclairement désiré de la résine photosensible. Au cours d'un processus d'exposition typique, une forme d'onde de tension est appliquée à la source lumineuse pour limiter son intensité. Une fois la source lumineuse réglée, le substrat est placé dans la chambre à vide de SCL CD 400. La plaque d'exposition est introduite dans la chambre puis la plaque de résine photosensible est placée sur la plaque. Enfin, avant l'exposition, un gaz d'un gaz inerte, tel que le dioxyde de carbone, est pompé dans la chambre, ce qui diffuse la lumière et élimine toute aberration optique. Après l'exposition, la résine photosensible peut ensuite être développée en solution chimique après élimination du substrat de la chambre à vide. Après le processus de développement, la couche de photorésist aura des caractéristiques définies avec précision qui ont été créées par la source lumineuse à partir de CD 400. SCL CD 400 Photoresist Unit est conçu pour la haute résolution et la simplicité de fonctionnement. La source lumineuse de la machine et les plaques d'exposition précises créent une couche photorésistante de contraste élevé qui peut être développée avec précision. Le gaz inerte remplissant la chambre à vide contribue à éliminer les aberrations optiques et diffuse la lumière, permettant à CD 400 de créer des caractéristiques détaillées avec une précision qui rivalise avec les méthodes lithographiques classiques.