Occasion SCL CD 500 AR 42 #9102796 à vendre en France

SCL CD 500 AR 42 est un équipement de photorésistance à faisceau électronique conçu pour les procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour créer des caractéristiques à l'échelle du nanomètre et des dimensions critiques sur les matériaux diélectriques et conducteurs utilisés dans la production de circuits intégrés. Ce système comprend une source de lithographie à faisceaux d'électrons multiples, une puissante capacité de mesure et une unité de gestion de photorésistance contrôlée par logiciel. La source de faisceau électronique du CD 500 AR 42 est dotée d'une machine résonnante à lentille qui supporte une accélération élevée, fournissant les images à haute résolution souhaitées pour des motifs de lithographie avancés. Avec sa large gamme de densités de courant de faisceau, les conditions opératoires peuvent être ajustées pour une exposition optimisée des photorésistes et des matériaux de substrat. Les puissantes capacités de métrologie de cet outil comprennent la capacité de mesurer le focus dynamique, le suivi ligne/portée, la dimension critique (CD) sur la marque, et les contours de profil. Pour faciliter l'intégration dans les environnements de production automatisés, le CD 500 AR 42 de SCL est équipé d'une interface de programmation applicative (API) et est compatible avec divers protocoles de communication. L'actif de gestion des photorésistances du CD 500 AR 42 fournit un support complet pour toutes les variétés de photorésistances utilisées dans la fabrication des dispositifs. Ce modèle comprend un équipement automatisé de haute précision pour contrôler de multiples aspects du pré-traitement photorésist et du four post-exposition. Il est conçu pour maintenir une fenêtre optimale entre les cycles d'exposition et de cuisson, assurant un développement photorésist fiable et répétable. SCL CD 500 AR 42 est le choix idéal pour toute installation de production de semi-conducteurs. Avec sa conception robuste et sa haute performance, ce système offre une solution extrêmement fiable pour produire des caractéristiques complexes à l'échelle du nanomètre. En outre, les systèmes intégrés de métrologie permettent un contrôle rapide et précis des processus d'exposition, tandis que son unité de gestion photorésist offre une solution automatisée et fiable pour les applications avant et après exposition.