Occasion SCL CD 80 #9184562 à vendre en France

SCL CD 80 est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour la fabrication de cartes de circuit. Il s'agit d'un type avancé de photolithographie qui permet une génération de circuits haute vitesse de haute qualité. Il est composé de deux parties : l'unité principale d'exposition, qui est une source spéciale de lumière d'exposition aux UV, et l'unité de résistance, qui est les matériaux photorésistants. L'unité d'exposition fournit la lumière d'exposition nécessaire à la fabrication de motifs, tandis que l'unité de résistance fournit le matériau de photorésist qui est revêtu sur le substrat de la carte de circuit dans un motif utilisant la photolithographie. Le système de photorésistance CD 80 utilise une source lumineuse d'exposition aux UV de haute intensité, qui permet de fabriquer des motifs avec des détails très fins. Ceci est rendu possible par l'approche descendante de l'exposition, qui crée des motifs de photorésist exposés dans des couches contiguës. La lumière UV haute intensité permet une exposition sur la plage de temps d'exposition idéale pour la plupart des photorésistes, en fonction du temps d'exposition nécessaire pour chaque motif. La quantité d'exposition nécessaire est ajustée grâce à l'ajustement du temps et de l'intensité d'exposition, ce qui permet un grand contrôle du profil de la résine photosensible. L'unité de résistance de l'unité est constituée de différents matériaux photorésistants utilisables dans le processus de photolithographie. Cela permet au fabricant de choisir le bon matériau de résistance en fonction de l'application. La photorésist est un matériau sensible à la lumière qui est appliqué sur un substrat structurant et exposé à la lumière ultraviolette (UV). Le matériau devient plus soluble dans une solution de révélateur. Lors de la photolithographie, le matériau de résistance exposé est enlevé, tandis que la zone non exposée est protégée du révélateur et reste sur le substrat. Ainsi, la fabrication de motifs est réalisée par la combinaison des processus d'exposition et de développement. La photorésistance SCL CD 80 est conçue pour la génération de motifs précis et reproductibles. Il est convivial, permettant à l'utilisateur d'ajuster facilement le temps d'exposition et l'intensité pour le motif désiré. Il est également conçu pour une large gamme de matériaux photorésistants, permettant de choisir le matériau de résistance approprié pour l'application. La combinaison de ces caractéristiques conduit à des circuits de haute qualité et haute vitesse, ainsi qu'à une amélioration de la stabilité, de la flexibilité et de la précision des processus.