Occasion SCREEN RF3 #293586632 à vendre en France

L'équipement de photorésistance SCREEN RF3 est une unité de développement et d'exposition de pointe utilisée pour transférer difficilement des photomasques destinés à la fabrication de microcircuits à couches minces. Le système offre des performances supérieures aux procédés photolithographiques traditionnels. RF3 unité de photolift dispose d'un holotablet de 48 pouces de diamètre avec une machine de rigidification électronique robuste. Ceci permet un alignement de haute précision du matériau de résistance par rapport à l'image de masque, ce qui a un effet direct sur la résolution des motifs obtenus. Cet outil offre également une mesure automatique de l'épaisseur et du profil de la résistance, permettant un contrôle précis du temps de développement. Le procédé photorésist consiste à aligner un photomasque sur un substrat, à l'aide de la table optique SCREEN RF3. La lumière UV est ensuite rayonnée à travers le masque sur le substrat, où elle est absorbée et modifiée par la résine photosensible. Lorsque la résine photosensible est exposée, la réaction entre la résine et la lumière produit un changement chimique qui crée le motif microcircuit désiré. Une fois exposée, la résine photosensible doit ensuite être développée et gravée pour révéler le motif du microcircuit. RF3 actif comprend également un photorésist amélioré et résistant à l'irradiation. Ce nouveau matériau photorésist a un coefficient de dilatation thermique plus faible et une stabilité thermique plus élevée que les photorésistes traditionnels. Cela permet une moindre distorsion au cours du processus de développement et de gravure, entraînant des résolutions plus élevées et des rendements plus élevés. De plus, le modèle SCREEN RF3 est capable de mesurer l'épaisseur de la couche de résine photosensible et la taille du motif obtenu, avec une précision allant jusqu'à 0,1 micromètre. Ce niveau de précision permet des performances supérieures dans les microcircuits haute densité, où le temps et l'effort sont nécessaires pour fabriquer un circuit complexe. En général, RF3 photorésistent l'équipement est un outil flexible utilisé dans la fabrication de microcircuits de film minces. Il offre des performances et une précision supérieures par rapport aux autres techniques de photolithographie et permet la production de microcircuits haute densité et haute performance de manière rentable.