Occasion SCREEN RF3 #293749049 à vendre en France

SCREEN RF3 est un système de photorésistance positive pour la photolithographie du développement de dispositifs semi-conducteurs et la production de masse. Composé d'une photorésist et d'un développeur alcalin, il est développé par SCREEN Holdings Co. La résine photosensible est composée de trois parties : une résine acrylique, un agent photosensible et un stabilisant pour améliorer les propriétés du film lors de l'exposition. Ces composants travaillent ensemble pour créer une photorésist positive, capable de produire des motifs à haute résolution. La résine photosensible est appliquée sur la surface du substrat et exposée à la lumière ultraviolette (UV). La lumière UV fera réagir l'agent photosensible dans la résine photosensible et formera une structure de réticulation. Cette réticulation va inhiber la dissolution de la photorésist, et ainsi former un motif sur le substrat. RF3 photorésist est optimisé pour la lithographie d'immersion en ArF (fluorure d'argon) et KrF (fluorure de Krypton). Il contient un agent photosensible est compatible avec ces longueurs d'onde, assurant une excellente résolution de motif, même aux tranchées et aux trous de contact avec des rapports d'aspect faibles. La performance lithographique de la résine photosensible est également améliorée par sa large latitude de travail. Il s'agit d'une considération importante, car la lithographie doit tenir compte des changements dans les conditions d'exposition et de traitement. La résine photorésist SCREEN RF3 offre une large latitude, permettant une bonne stabilité du procédé même dans des conditions d'exposition variables. Une autre caractéristique de RF3 photorésist est son excellente sélectivité de gravure, qui est excellente pour la fabrication de dispositifs qui comprend la gravure de plusieurs couches et des caractéristiques fines. Ce photorésist est également très avancé en matière de stabilité environnementale et de résistance à l'humidité, car il est composé d'une résine acrylique qui améliore la stabilité du film. Globalement, SCREEN RF3 photoresist offre une haute résolution et des motifs précis avec une large latitude de travail, une sélectivité de gravure et une excellente résistance à l'humidité. C'est un système fiable et stable, bien adapté à la fabrication de dispositifs dans la production de semi-conducteurs.