Occasion SCREEN RF3 #9311026 à vendre en France

SCREEN RF3 est un équipement de photorésistance qui permet des processus de micro-lithographie de haute précision et ultra-haute précision. Il utilise un système optique logiciel de pointe, qui permet la manipulation du processus de lithographie pour créer des motifs extrêmement complexes et minuscules avec le plus haut degré de précision. L'unité est composée de deux composantes principales ; le scanner laser et l'étage hexa-axe très précis. Le scanner laser permet une exposition précise et précise des matériaux photorésistants. Cette machine de balayage laser est équipée d'une tête de balayage capable de travailler dans une gamme allant de sous microns à plusieurs centaines de microns, et avec une vitesse élevée allant jusqu'à 1 GHz. L'étage hexa-axe est équipé d'un dispositif réglable pour assurer le positionnement précis et stable de la plaquette. Cet étage peut également faire tourner la plaquette par paliers de 0,001 ° à 0,0015 ° pour la création de structures plus complexes. RF3 l'outil est très précis et fiable ; il dispose de serveurs automatisés d'alignement et d'alignement en boucle fermée pour le contrôle de la rétroaction et le fonctionnement continu de la salle blanche. Ceci garantit un haut niveau de précision tout en atténuant le risque de contamination due aux vibrations ou au bruit thermique. En outre, l'actif est capable de produire une uniformité exceptionnelle des plaquettes et des profils à faible bruit pour des performances et des rendements optimaux du dispositif. Il dispose d'une option supplémentaire de métrologie in situ qui permet la surveillance et le contrôle en cours de processus du photorésist. Le modèle SCREEN RF3 fournit le plus haut degré de précision et de précision pour les processus photorésistants, produisant des performances exceptionnelles et des rendements minimisés. Cet équipement est maintenant largement utilisé dans l'industrie des procédés de semi-conducteurs et de nanotechnologie.