Occasion SEIKO STX-3200 #9267514 à vendre en France

SEIKO STX-3200
Fabricant
SEIKO
Modèle
STX-3200
ID: 9267514
Coating thickness gauge.
SEIKO STX-3200 est un équipement de photorésistance très avancé pour le développement de circuits intégrés spécifiques à une application. Ce système a été développé par SEIKO et est utilisé dans diverses applications telles que la production de circuits VLSI, la fabrication de semi-conducteurs et l'emballage de puces IC. STX-3200 utilise une unité d'exposition UV et i-line (également connue sous le nom d'UV profond) avec des capacités de réseau tridimensionnel, ainsi que des logiciels et du matériel dédiés. SEIKO STX-3200 permet un contrôle précis de l'exposition avec une résolution de niveau pixel, ce qui le rend idéal pour les conceptions de circuits avec des largeurs de lignes et des motifs complexes. Son optique haute résolution permet une résolution maximale sur des lignes mesurées en microns. L'outil d'autofocus à quatre modes de la machine assure la cohérence du point focal avec toute la surface de la résine photosensible, éliminant les points chauds. Cet atout fournit également une configuration optionnelle d'un modèle à trois lentilles qui permet une exposition simultanée avec trois longueurs d'onde différentes, ce qui le rend idéal pour les conceptions de circuits haute densité. STX-3200 est pris en charge par un logiciel polyvalent capable de créer des motifs pour des conceptions à deux et trois dimensions. Le logiciel compatible de l'équipement peut être utilisé pour réaliser des expositions parallèles et verticales, ainsi que l'alignement des masques. Grâce à une fonction de traçabilité intégrée, les utilisateurs peuvent facilement surveiller chaque étape de conception et s'assurer que les résultats souhaités sont atteints. En plus d'un contrôle précis des opérations d'exposition, SEIKO STX-3200 comprend des fonctions de contrôle avancées pour divers processus de photorésistance. Les réglages personnalisables du système peuvent être ajustés en fonction de la température, de l'humidité et du temps d'exposition. Ces paramètres sont essentiels pour contrôler les résultats physiques finaux sur les produits finis, car toute déviation peut conduire à des résultats qui ne sont pas optimaux. La flexibilité du STX-3200 et sa conception orientée vers le détail lui permettent d'être un élément précieux du processus de fabrication de la résine photosensible. Il peut être utilisé pour concevoir des composants à l'échelle micro, ce qui donne des motifs complexes qui ne peuvent pas être reproduits à l'aide de procédés photolithographiques traditionnels. Avec son logiciel et son matériel dédiés, cette unité de photorésistance avancée peut répondre à un large éventail de besoins de conception de circuits.
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