Occasion SEMES EKPS-01 #9352140 à vendre en France

SEMES EKPS-01 est un équipement de photorésistance positive amplifiée chimiquement qui est utilisé pour la fabrication de circuits intégrés et d'autres dispositifs microélectroniques associés. Les photorésistes sont généralement composés d'un film de polymère photosensible qui est enrobé sur un substrat, modelé à l'aide d'une source lumineuse, puis développé pour former une image modelée. EKPS-01 est un système de photorésistance économique qui offre une stabilité accrue de la solution, une meilleure adhérence et résolution, et un profil amélioré sur des systèmes similaires. Les composants principaux de l'unité sont une couche superficielle inférieure et intermédiaire de photorésist, une couche barrière et une couche superficielle supérieure de photorésist. La couche superficielle inférieure est composée d'un polymère polyamidéimide favorisant l'adhésion au substrat tandis que les couches intermédiaire et supérieure de photorésist sont composées d'un polymère polyimide réticulé conçu pour une résolution supérieure et une résistance à la gravure. La barrière est composée d'un polyamidéimide pour bloquer l'intrusion oxygène/humidité. Ce type de construction contribue à améliorer l'adhérence et à permettre une meilleure résolution lors de la fabrication du dispositif. Le principal avantage de cette machine de photorésistance est son excellente résolution. SEMES EKPS-01 est capable de produire des caractéristiques aussi petites que 0,1 µm, ce qui est important pour les applications de circuits haut de gamme. En outre, l'outil offre une stabilité accrue, minimisant les déchets dans le processus de fabrication et économisant du temps en raison de la réduction du temps de cycle. La propriété adhésive de EKPS-01 aide à minimiser les fissures ou les pelages pendant le processus de fermentation. L'actif SEMES EKPS-01 offre un processus d'amplification chimique (CA) qui augmente la sensibilité et la vitesse du processus d'exposition tout en maintenant un niveau élevé de résolution. Le procédé CA s'effectue à travers une solution aqueuse et fait intervenir deux composants : un générateur d'acide et un stabilisateur. Le générateur d'acide augmente la sensibilité au stade de la photoactivation, et le stabilisateur empêche le développement prématuré. Ce procédé est bénéfique en ce qu'il réduit significativement le temps de cycle tout en améliorant la qualité de l'image. En raison de sa résolution excellente, stabilité améliorée, adhésion excellente et processus d'amplification chimique, EKPS-01 photorésistent le modèle est un choix idéal pour la fabrication de circuit. Ses caractéristiques avancées permettent d'améliorer la résolution et la résistance à la gravure, offrant d'excellentes performances dans un large éventail de conditions d'application.