Occasion SEMES EKPS-01 #9352141 à vendre en France

SEMES EKPS-01 est un équipement de photorésistance entièrement automatisé pour la planarisation de surface. Il est capable de traiter un large éventail de matériaux photorésistants avec d'excellents résultats. Elle est applicable dans diverses applications telles que la fabrication de circuits et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. EKPS-01 système utilise une unité de contrôle en boucle fermée avec des capteurs photoélectriques pour surveiller et contrôler avec précision le processus de revêtement photorésist. Il est capable de délivrer une épaisseur de revêtement uniforme sur tout le substrat avec une très faible variation. En outre, il dispose d'une machine de nettoyage automatique intégrée pour réduire la contamination de la couche de résine photosensible. L'outil de photorésistance est constitué d'une tête de faisceau focalisée, d'une cible de dépôt de précision et d'un actif gazeux sous pression. La tête de faisceau focalisée est capable de générer une variété de types de faisceaux pour différentes applications de revêtement. La cible de dépôt de précision est conçue pour fournir une couche de photorésist uniforme sur le substrat avec une excellente adhérence. Le modèle de gaz sous pression fournit un flux de gaz uniforme à travers le substrat pour assurer un dépôt uniforme. L'équipement comprend également un système de vide intégré pour s'assurer que la résine photosensible reste en place et est répartie uniformément. L'unité sous vide aide également à éliminer l'excès de matière après le processus de revêtement pour éliminer les déchets. De plus, SEMES EKPS-01 utilise un logiciel de pointe qui permet un contrôle automatisé du processus photorésist. La machine permet aux utilisateurs de personnaliser les paramètres du processus de revêtement pour permettre des résultats précis et reproductibles. EKPS-01 outil photorésist est conçu pour être extrêmement fiable et capable de fournir des résultats reproductibles. De plus, le coût de l'actif est relativement faible pour un modèle de photorésist automatisé. En conséquence, c'est un excellent choix pour les applications de planarisation de surface et d'autres besoins de traitement photorésist.