Occasion SEMES Semhawk #9302263 à vendre en France

SEMES Semhawk est un équipement photorésist de nouvelle génération conçu pour permettre la fabrication de circuits intégrés complexes et à haute résolution. Le système utilise un faisceau d'énergie plus élevée, appelé une lumière ultraviolette extrême, pour exceller dans la production d'images vives et contrastées. Ceci est dû à la nature très énergétique du faisceau lumineux, qui lui permet de briser des molécules de résistance qu'une unité photorésiste traditionnelle ne peut pas. En raison de la combinaison de la vitesse et de la productivité, la production de microélectronique complexe est maintenant possible qui n'était pas possible auparavant. Au cœur de la machine se trouve un canon à électrons à émission de champ froid (CFE) et lentilles de lunettes (SLM) qui permet la génération et la manipulation du rayonnement électromagnétique utilisé pour la lithographie. Un laser UV est utilisé pour le contrôle et l'alignement du CFE. Le CFE dirige alors et module le faisceau lumineux UV sur une surface revêtue de résine. Cette résine est sélectivement fondue et/ou durcie par la lumière UV, produisant une image en surface. Semhawk est très intégré et comprend des fonctionnalités telles que l'unité de traitement thermique rapide pour protéger la résine photosensible contre les dommages en chauffant et en refroidissant rapidement la résine pendant le traitement. L'outil est également équipé d'une chambre à vide, d'électrodes et d'un détecteur, qui lui permettent de produire le vide intense nécessaire pour former avec précision les images sur la couche de résine photosensible. L'actif est conçu pour être durable et efficace, et peut résister à l'exposition aux UV durs et à l'environnement de processus en incluant des composants résistants à l'abrasion et à la chaleur. Grâce à ses composants très denses, son câblage et sa résistance à la chaleur, il est également en mesure de produire des images de qualité et de précision supérieures. Le modèle peut produire des caractéristiques de tailles aussi petites que 180 nanomètres et supporte l'exposition et l'empilement de plaquettes de jusqu'à 8 couches. En plus de sa robustesse, l'équipement comprend des fonctionnalités telles qu'un module de reconnaissance automatique des motifs qui peut aider l'utilisateur à optimiser l'imagerie et à réduire le risque de défauts de motifs. Le système utilise également l'exposition automatique intégrée et la commande de focalisation pour une plus grande précision. Avec son large éventail de caractéristiques et d'avantages, cet appareil photorésist est idéal pour les clients qui recherchent un outil capable de produire des images avec des contrastes élevés, une surface propre et des défauts de motif minimes.