Occasion SEMICON LHB-3100 #9117937 à vendre en France

SEMICON LHB-3100 est un équipement de haute précision utilisé dans le processus de photolithographie pour la fabrication avancée d'IC. Le système est utilisé pour créer des masques photosensibles résistants à la gravure qui sont utilisés pour transférer un motif sur un substrat pour former des structures pour des composants IC. Les composants clés de LHB-3100 sont son unité d'imagerie haute résolution, sa machine de revêtement de couche de résistance et son outil de développement de résistance. L'actif d'imagerie utilise une lentille de projection pour projeter en détail le motif désiré sur le substrat. Le modèle de revêtement résineux recouvre alors le substrat d'une fine couche de résine photosensible destinée à être exposée par la lumière. L'équipement de développement de résistance utilise un développeur spécialisé pour graver sélectivement les zones exposées du masque de résistance, laissant les zones non exposées intactes pour former un masque de protection résistant à la gravure. SEMICON LHB-3100 est conçu pour répondre aux besoins de fabrication avancée d'IC, car il peut atteindre une taille minimale de 0,8 µm avec son système d'imagerie haute résolution. Il fournit également une résolution superbe allant jusqu'à 15 paires de lignes/millimètre, ce qui donne un niveau de résolution d'image précis et un excellent contrôle sur le motif généré. De plus, l'unité permet des temps d'exposition allant jusqu'à 300 millisecondes, ce qui élimine le besoin de retard après exposition. Ses systèmes de revêtement et de développement résistent aux micro-défauts et garantissent la précision. LHB-3100 offre également plusieurs caractéristiques exceptionnelles pour la fabrication avancée d'IC telles que la charge/déchargement automatisé des substrats, l'enregistrement optimisé des superpositions et le diagnostic de focalisation automatisé. En outre, ses fenêtres de contrôle de processus assurent un suivi et un contrôle des processus faciles. Dans l'ensemble, SEMICON LHB-3100 est une excellente machine de photorésistance pour la fabrication d'IC, offrant une excellente qualité d'imagerie avec une résolution et précision aiguë, des performances supérieures, et une programmation fiable. Il est construit avec les caractéristiques technologiques haut de gamme cruciales pour la prochaine génération de production IC et est idéal pour les fabricants IC à la recherche d'un outil de photolithographie robuste et précis.