Occasion SEMITOOL 2300S #151756 à vendre en France

SEMITOOL 2300S
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
2300S
ID: 151756
Taille de la plaquette: Up to 12"
Spin rinse dryer, up to 12".
SEMITOOL 2300S est un équipement de photorésistance utilisé pour la production de dispositifs microélectroniques. Il est utilisé pour le revêtement et le développement de photorésist sur des substrats microélectroniques. Le système est très automatisé et convivial, offrant une performance cinématographique précise et répétable avec ses fonctionnalités avancées. 2300S utilise une méthode de cuisson à basse température qui offre une excellente compatibilité avec des substrats délicats et dispose d'une configuration automatisée de piste de film. Sa piste de film automatisée est réglable pour accueillir une variété de tailles de substrat. Un ensemble de pompes à résines spécialement conçues et de haute qualité permet une application précise du matériau résiste sur le substrat à chaque impulsion. En outre, les assemblages de chambre de pression et de buse de SEMITOOL 2300S ont une hauteur et un angle réglables, permettant des épaisseurs de film de revêtement précises et répétables. L'unité photorésist dispose également d'une machine optique de haute précision avec un laser de courte longueur d'onde qui permet une résolution précise et répétable des caractéristiques. Cet outil utilise un algorithme de pointe propriétaire pour éliminer l'effet des particules de poussière et permettre un contrôle précis de la focalisation. De plus, son moteur d'agitation à deux vitesses à bord permet un contrôle précis de la viscosité et une uniformité de revêtement. Pour assurer un profil de film précis et reproductible, 2300S utilise une profilométrie avancée sans contact qui mesure avec précision le profil de surface du substrat. De plus, ses matériaux à faible débordement et ses modèles résistants à la sublimation protègent les substrats sensibles et garantissent des résultats de qualité. L'actif photorésist SEMITOOL 2300S est bien adapté à une grande variété d'applications nécessitant un profil de précision, une uniformité de film, un contrôle fin des caractéristiques et des matériaux à faible débit. Les fonctionnalités automatisées du modèle permettent des performances de film uniformes et cohérentes pour chaque substrat et son équipement optique de pointe assure une résolution précise et répétable des fonctionnalités. De plus, son procédé de cuisson à basse température assure la compatibilité avec des substrats délicats, ce qui en fait un choix idéal pour la production de dispositifs microélectroniques.
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