Occasion SEMITOOL 260 #82972 à vendre en France
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ID: 82972
Table-top SRD
Single process chamber
(2) stage controller
Single rinse, single dry
Brush motors
Ferrofluidic Rear Bowl Shaft Seal
PSC Controllers (match customers current controller)
N2 Cartridge Heater
N2 Filter
Labyrinth door seal
New Teflon DI and N2 lines
New color coded pneumatic tubing
4" rotor available for additional cost.
SEMITOOL 260 est un équipement avancé de bande de photorésistance. Il s'agit d'un système automatisé, d'une étape, économique pour l'élimination de la résine photosensible des substrats semi-conducteurs. L'unité assure le nettoyage et la gravure de précision des applications photorésistantes épaisses (> 0,25 μ m), minces (< 0,25 μ m) ou multicouches avec un procédé doux et uniforme. 260 utilise une technologie innovante pour contrôler avec précision l'ensemble du cycle de nettoyage des photorésistances, y compris la concentration en acide, la température de l'eau de rinçage, les temps de rétention et la durée du cycle des bandes. L'outil est alimenté par un actif de recirculation en boucle fermée à quatre réservoirs et dispose de vitesses de nettoyage et de gravure sélectionnables par l'utilisateur. Il utilise un procédé de gravure avancé, monophasé, permettant l'élimination supérieure des couches de photorésist. Le logiciel d'exploitation SEMITOOL 260 est conçu pour améliorer les performances de nettoyage et minimiser les erreurs au cours du processus. Le logiciel dispose d'une collection d'outils personnalisables qui permettent à l'opérateur d'optimiser le cycle propre en fonction des exigences spécifiques du substrat. Il permet également à l'utilisateur d'automatiser les nettoyages consécutifs et d'établir des alarmes périodiques et des temps de démarrage/arrêt programmables. Le modèle permet aux opérateurs de contrôler avec précision les cycles du robinet et du robinet inversé pour obtenir des résultats optimaux. Le cycle inverse du robinet permet de réduire le décapant résiduel et de rincer l'eau de la surface de la plaquette, ce qui améliore la qualité du nettoyage. L'équipement utilise également deux réservoirs à cycle acide et propre étroitement surveillés, qui peuvent être utilisés en tandem ou indépendamment. Pour des raisons de sécurité, 260 systèmes sont conçus avec une unité de sécurité avancée. Cette machine dispose de plusieurs capteurs et moniteurs pour permettre une surveillance continue et continue des paramètres du processus. L'outil utilise également une chambre de nettoyage isolée qui prévient les expositions accidentelles à des produits chimiques nocifs, ainsi qu'un atout unique de contrôle acide qui surveille et maintient les niveaux de pH pour des résultats uniformes propres. En plus de ses performances fiables, le modèle SEMITOOL 260 est également conçu pour faciliter son utilisation. Il est livré avec des contrôles simples et simples de fonctionnement et intuitif interface graphique utilisateur (GUI). L'interface utilisateur permet de configurer et d'ajuster facilement les paramètres en fonction des applications individuelles. En outre, il dispose d'une fonction d'auto-nettoyage qui permet d'assurer les résultats de décapage de photorésist de la plus haute qualité.
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