Occasion SEMITOOL 260F #151781 à vendre en France

L'équipement de photorésistance SEMITOOL 260F est un spin-coater/développeur intégré de pointe conçu spécifiquement pour l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'une chambre rotative et rétractable qui peut accueillir un substrat de 8 pouces de diamètre maximum. 260F est livré avec un moteur de rotation intégré avec vitesse et couple réglables, fournissant un contrôle précis sur les processus de spin-revêtement. Le système utilise un contrôle précis sur le temps, la température, la vitesse et la pression de pulvérisation du développeur. Le contrôle de la température est réglé par Pico-Temperature Control™. La conception de la chambre de SEMITOOL 260F comprend une unité de levage automatisée, permettant de filer plusieurs substrats et de les développer rapidement et efficacement en gros lots. La machine est équipée d'un orifice d'échappement refroidi par air pour un dégagement efficace de toutes les fumées. 260F outil photorésist est alimenté par un moteur intégré, à entraînement direct sans brosse, fournissant le couple et la vitesse optimale pour chaque application. La performance du spin-coating est améliorée par un outil avancé de levage en deux étapes, permettant un contrôle optimal du mouillage, du nivellement et de la compression de la résistance lors des processus de spin-coating. Le modèle comprend également une technologie de pulvérisation automatisée et une distribution précise des produits chimiques du développeur. La pression est contrôlée avec précision pour pouvoir être relevée ou abaissée en fonction des besoins du substrat, de la résistance et du procédé couche par couche. SEMITOOL 260F est équipé d'un écran LCD haute résolution de 16 pouces et d'un panneau de commande, ce qui fournit à l'utilisateur une rétroaction visuelle de l'état du processus. L'équipement dispose d'une interface utilisateur intuitive et de multiples fonctions de commodité intégrées, le rendant facile à utiliser et intuitif. 260F système photorésist est une solution de pointe pour l'enrobage et le développement d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Sa solution complète pour le spin-enrobage précis et automatisé, le contrôle de la température et un haut niveau de sécurité, le rend idéal pour une grande variété de procédés de photorésistance. L'unité de levage à deux étages avancée et la technologie de pulvérisation automatisée fournissent le contrôle ultime et la précision dans les opérations de spin-coating et de développement.