Occasion SEMITOOL 260F #9229806 à vendre en France

SEMITOOL 260F est un équipement de gravure à sec entièrement automatisé conçu pour graver des couches de masque/photo-résistance sur des plaquettes semi-conductrices. La machine permet de contrôler et de gérer avec précision des paramètres de gravure multiples pour la gravure haute performance de divers matériaux tels que l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, le silicium polycristallin et l'aluminium. 260F est équipé d'un mandrin de gravure de spin, qui utilise la pulvérisation à basse fréquence sans contact pour graver les surfaces avec une précision maximale. Cette rotation contrôlée permet de réduire la formation de débris tout en maintenant un profil de gravure uniforme sur toute la surface de la plaquette. De plus, un système de surveillance des plaquettes est intégré à la machine pour assurer la précision et la répétabilité du processus de gravure. La machine utilise une unité de distribution de gaz à double masse, composée d'un injecteur direct haute pression et d'un injecteur basse pression. Le premier est utilisé pour fournir des gaz de gravure propres et secs avec des débits élevés, tandis que le second peut fournir des concentrations plus élevées de gaz de gravure, permettant des gravures plus efficaces. La machine à double masse est capable de fournir divers procédés de gravure tels que la gravure humide, la gravure profonde, la passivation et la gravure de grille. En outre, SEMITOOL 260F dispose d'outils intégrés pour le contrôle et l'optimisation des processus, tels que la surveillance des processus et le contrôle automatisé des recettes. La fonction de contrôle automatisé de la recette permet des recettes entièrement personnalisables, permettant d'optimiser les paramètres de gravure pour correspondre aux spécifications spécifiques des appareils. La fonction de surveillance du processus permet d'assurer la répétabilité du processus en surveillant les paramètres critiques de gravure tels que la température, la durée du processus, la pression et le débit de gaz. Globalement, 260F est un outil de gravure photorésist idéal pour effectuer une gravure de haute précision de divers matériaux utilisés dans les applications de semi-conducteurs. Il fournit un processus de gravure robuste et répétable avec un contrôle précis de plusieurs paramètres de gravure tels que la température, la pression, le débit de gaz et le temps de traitement. Ses outils intégrés de suivi et d'optimisation des processus fournissent les outils nécessaires pour assurer la répétabilité et la qualité des processus.