Occasion SEMITOOL 270S #293811484 à vendre en France

SEMITOOL 270S
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
270S
ID: 293811484
Taille de la plaquette: 6"
Spin rinse dryers, 6".
SEMITOOL 270S Photoresist Equipment est un système technologiquement avancé conçu pour fournir précision et précision lors de la gravure et de la fixation des plaquettes de silicium. L'unité est composée de deux composants principaux : la chambre de procédé et le générateur. La chambre de procédé abrite deux modules de gravure/bande avancés : le module HM/CMP et le module de pelage photorésist. Les deux modules sont dotés d'une technologie brevetée conçue pour fournir un contrôle supérieur des processus, une répétabilité et des résultats avancés. Le module HM/CMP offre des capacités de gravure, de dépôt et de polissage de haute précision, de haute répétabilité. Il se compose d'un ensemble sophistiqué de composants, dont un porte-plaquettes 5 axes, un capteur de capacité à double fréquence, une machine de distribution de gaz de gravure très réactive et un environnement de débit/pression de gaz réglable. Le module photorésist peel-off contient un outil d'exposition numérique avancé, un actif de focalisation numérique haute résolution, une source ultraviolette (UV) et un dispositif de chauffage thermique. Il est conçu pour fournir une capacité d'exposition et de gravure fiable et précise pour la photorésistance de surface et la gravure en profondeur. Le composant générateur de SEMITOOL 270-S Photoresist Model est conçu pour fournir une tension à haut débit et à faible bruit qui convient parfaitement pour le traitement en chimie humide avec la chambre de procédé. Il dispose d'une large gamme d'options d'alimentation, y compris les tensions DC et AC, ainsi que le support pour le contrôle d'interface PC. Le générateur de l'équipement est également conçu avec un blindage méticuleux, offrant une isolation sonore supérieure et des niveaux de précision plus élevés. Dans l'ensemble, 270S Photoresist System est un outil fiable, puissant et précis pour la gravure et le façonnage des plaquettes de silicium les plus avancées d'aujourd'hui. Son contrôle avancé des processus, sa haute répétabilité et sa précision supérieure en font un outil idéal pour les applications les plus exigeantes.
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