Occasion SEMITOOL 280 #101472 à vendre en France

SEMITOOL 280 Photoresist Equipment est une plate-forme de lithographie de nouvelle génération destinée à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Ce système est conçu pour fournir une imagerie haute résolution et résister au développement ultra-précis, en soutenant la production de composants électroniques de pointe. 280 utilise une unité d'exposition au faisceau d'électrons, plutôt que les systèmes d'exposition optique traditionnels couramment utilisés pour résister au traitement. Cela permet un contrôle plus précis du motif de résistance et de la structure du dispositif résultant, avec des performances supérieures par rapport aux systèmes optiques. En outre, la machine d'exposition au faisceau d'électrons a une très grande dynamique, ce qui lui permet d'afficher des caractéristiques de différentes tailles sur l'ensemble du substrat. L'outil d'exposition au faisceau d'électrons permet également des rapports d'aspect élevés, ainsi que des caractéristiques sous-µm. En conséquence, les images de sortie sont de la plus haute qualité et fidélité. L'actif dispose également d'un modèle de développement automatisé de résistance, permettant une épaisseur de film reproductible et précise et l'enlèvement des matériaux. SEMITOOL 280 comprend une technologie brevetée de revêtement en résine spin-on, permettant un revêtement rapide et uniforme du substrat. Cela permet un dispositif précis et reproductible caractéristiques de calibrage et de placement dans le substrat. De plus, l'équipement est capable de charger et de décharger de multiples substrats, permettant une production à grande échelle de dispositifs complexes. Les capacités de traitement et de contrôle des données de 280 sont un autre avantage du système. Un logiciel est fourni pour l'intégration et le contrôle de l'unité, ainsi que pour la détection et la correction des défauts. Ce logiciel est utilisé pour gérer l'ensemble du processus, de l'acquisition d'image à la résistance au revêtement, à l'exposition et au développement, jusqu'au placement de la fonctionnalité sur le substrat. Ce logiciel permet d'ajuster les paramètres d'exposition et de développement selon les besoins afin d'optimiser chaque étape du processus. Dans l'ensemble, SEMITOOL 280 Photoresist Machine est un outil puissant et polyvalent destiné à la production en grand volume de dispositifs semi-conducteurs avancés. Avec son outil d'exposition au faisceau d'électrons, ses capacités de développement et de traitement des données, 280 offre un traitement de résistance précis et reproductible avec des résultats supérieurs à ceux de l'actif optique traditionnel.