Occasion SEMITOOL 280S #151758 à vendre en France

SEMITOOL 280S
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
280S
ID: 151758
Taille de la plaquette: Up to 8"
Spin rinse dryer, up to 8".
SEMITOOL 280S est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour développer et appliquer des couches minces de photorésist sur un substrat. C'est un système performant, conçu pour répondre aux exigences de photolithographie les plus exigeantes. L'unité est composée de plusieurs composants, dont un plateau de recirculation, une table humide de filage et un moniteur LCD, ainsi que deux étages pour le positionnement du substrat. En outre, 280S comprend plusieurs modules logiciels pour aider à optimiser le traitement des photorésistances et effectuer des analyses détaillées. Le plateau de recirculation, qui sert de table humide, peut contenir jusqu'à quatre cassettes de substrat simultanément, ce qui permet un traitement efficace. Le plateau tient et tourne doucement chaque substrat, contribuant à l'application uniforme du film de résine photosensible. Le moniteur LCD fournit une interface conviviale avec laquelle contrôler la machine, permettant un réglage précis des paramètres d'application et de développement de résistance. En outre, le moniteur fournit une variété de données analytiques et de suivi visuel de la photorésist liquide pour le contrôle de la qualité. De plus, les deux étages de positionnement des substrats facilitent l'alignement et le placement précis des composants. Les étages peuvent être réglés dans un plan tridimensionnel et utiliser des capteurs haute résolution pour assurer un positionnement précis. SEMITOOL 280S comprend également divers modules logiciels pour maximiser les résultats et assurer la cohérence. PathTracer est un programme qui peut être utilisé pour créer des lots optimisés de films, tandis que QFlo est une suite logicielle d'analyse conçue pour mesurer et surveiller les propriétés des photorésistances au fil du temps. Le module ECDB permet une gestion détaillée des bases de données, y compris le suivi des performances et la personnalisation des paramètres pour des substrats spécifiques. L'outil photorésist est équipé des caractéristiques nécessaires pour créer des résultats précis et reproductibles, ce qui le rend adapté à de nombreuses applications, y compris la fabrication de MEM, LED et IoT. En outre, il s'agit d'un actif compact et facile à utiliser, ce qui en fait un choix idéal pour les paramètres de laboratoire, de contrôle de qualité et de recherche.
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