Occasion SEMITOOL 280S #9255444 à vendre en France

SEMITOOL 280S est un équipement de photorésistance qui a été développé pour les procédés de fabrication de plaquettes. Le système peut être utilisé pour exposer et développer des photorésists amplifiés chimiquement et est idéal pour les processus de lithographie avec des emplacements serrés et des largeurs de ligne. L'unité est optimisée pour les processus HDRIP (High Density Release Imprinting), capable de fournir des profils de résistance de haute précision avec une haute résolution de 0,5 microns. La machine est livrée avec une caméra UV sophistiquée qui peut être intégrée dans le contrôle de processus pour la surveillance et l'évaluation continue du processus de lithographie. L'outil dispose d'un ensemble optique équipé de deux lentilles et d'un ensemble de lentilles de condenseur. L'ensemble optique est monté sur un étage de positionnement de haute résolution de précision qui permet un mouvement de haute précision dans la direction XY. L'étage est également programmable dans l'axe Z, permettant un alignement précis du masque et des lentilles inférieures, ainsi qu'un contrôle de focalisation. L'actif dispose également d'une cassette de masque entièrement automatisée pour le chargement et le déchargement des masques et des substrats, ainsi que d'un module d'alignement du substrat qui permet un réglage précis de la position et de l'orientation pour la précision. En outre, il dispose d'une fonction de déchargement automatique du substrat et de la manipulation robotique des plaquettes avec lecture de code-barres. Le modèle de développement de la photorésist utilise une méthode de traitement par lots et est un modèle à chambre unique pour le traitement de la photorésist qui permet un large éventail de paramètres de recette disponibles adaptés à la chimie de résistance appropriée. L'équipement dispose d'un système standard de robustesse qui a une unité de gazage de nettoyage, une machine de mesure de film mince, et des réglages de température et de pression réglables pour un développement précis de la robustesse. En plus des systèmes traditionnels de lithographie et de gogginess, 280S dispose d'un module de revêtement antireflet inférieur (BARC) qui peut être utilisé pour déposer des couches antireflet sur le côté inférieur de la plaquette pour réduire la réflectance de surface et améliorer les performances. L'outil peut également être utilisé pour des traitements post-développement, tels que la cuisson, l'élimination de la sogginess, et le recuit d'oxygène ou d'azote. Le modèle de contrôle logiciel de l'actif permet aux utilisateurs de personnaliser les recettes de développement et de surveiller l'ensemble du processus. Il dispose également d'un équipement de diagnostic et de réparation à distance qui peut être consulté depuis n'importe quel ordinateur capable d'Internet pour diagnostiquer les problèmes et effectuer la maintenance à distance. L'ensemble du processus peut être contrôlé et contrôlé par une simple interface graphique utilisateur. Dans l'ensemble, SEMITOOL 280S est un système de photorésistance puissant et capable, capable de produire une lithographie de haute qualité avec un contrôle précis de la focalisation dans la plage de pas de 0,5 micron. Il est livré avec une unité de manutention automatisée des plaquettes très avancée et une caméra UV sophistiquée pour la surveillance et l'évaluation des processus. La machine peut également être utilisée pour des traitements post-développement, tels que le retrait de la sogginess, la cuisson et le recuit. En outre, il dispose d'un logiciel modulaire qui peut être personnalisé pour optimiser les résultats pour des produits chimiques spécifiques de résistance.