Occasion SEMITOOL 4300S #71200 à vendre en France
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ID: 71200
Taille de la plaquette: 12"
Spin rinse dryer, 12"
102 Controller
Digital
Programmable
Non-contact labyrinth rear bowl shaft seal
Static eliminator assembly
Resistivity
RA-10 Bowl finish
Rotor quick disconnect
Brush-less motor with motor controller
Polypropylene cabinet: Aero style
Guaranteed particle counts: < 50 at .3 Micron
Used 17 meg Ohm DI water and class 1 N2.
SEMITOOL 4300S est un revêtement photorésistant et un équipement de développement qui utilise une technologie avancée et spécialisée pour atteindre la plus haute résolution et la plus petite taille de fonctionnalités réalisables. Il est parfaitement adapté à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs, en particulier ceux nécessitant des largeurs de ligne très fines. Le système est équipé de deux chambres de dépôt en phase vapeur standard, ainsi que de multiples bornes de raccordement de dispositifs externes, telles qu'un four de cuisson aval ou des chambres de dépôt en phase vapeur supplémentaires. Jusqu'à quatre gousses supplémentaires peuvent être ajoutées pour donner à l'unité un total de six chambres. Cela permet d'enduire une variété de surfaces. La machine dispose également de deux systèmes de transport de plaquettes avec deux moteurs linéaires indépendants sans balais pour un positionnement précis des plaquettes à l'intérieur des chambres. L'outil utilise un outil de contrôle logiciel automatisé avec une interface utilisateur basée sur le Web. Cela permet aux utilisateurs de contrôler le modèle depuis n'importe quel appareil connecté à Internet, et permet également la surveillance et le contrôle à distance. En outre, l'équipement dispose d'un logiciel avancé d'enregistrement et de déclaration des données, permettant aux utilisateurs d'analyser en profondeur chaque processus de wafer. Pour le chauffage du substrat, le système comprend à la fois des éléments chauffants prépositionnés et des lampes halogènes, qui permettent un contrôle précis de la température et des vitesses de chauffage. Une fois qu'une plaquette est dans la chambre, un revêtement photorésist est appliqué par la méthode spin-coating. Un substrat d'échantillon est ensuite chargé sur la tête de filature et enrobé par la résine photosensible. Ceci est suivi d'un processus de développement en plusieurs étapes dans lequel la résine photosensible exposée est enlevée avec un développeur ou un graveur. Après mise au point, la résine photosensible restante est retirée du substrat avec un solvant propre. Pour une résolution accrue et une taille de fonction plus petite, l'unité peut être utilisée conjointement avec des processus COBEX bi-niveaux en deux étapes. Il s'agit d'un premier processus de niveau de spin à long terme optimisé pour la haute résolution, suivi d'un processus de niveau de spin à court terme pour la miniaturisation des fonctionnalités. En conclusion, SEMITOOL 4300 S est une puissante machine de revêtement photorésist et de développement conçue pour répondre aux besoins de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. Son jeu de fonctionnalités avancé et son outil de contrôle automatisé offrent aux utilisateurs une résolution haut de gamme, des capacités de miniaturisation et un fonctionnement facile à utiliser.
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