Occasion SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP #9178866 à vendre en France

SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP Photoresist Equipment est une unité entièrement automatisée et intégrée de chimie et de traitement pour l'application de matériaux photorésistants. Il est capable de traiter jusqu'à 5 plaquettes de 115 mm par session. La machine est équipée d'une série de chambres de procédés indépendantes et interprogrammables, comprenant une armoire d'alimentation chimique externe, un contrôle atmosphérique programmable contrôlé par l'utilisateur, un générateur RF, une station de pulvérisation PR et un système de durcissement thermique rapide, qui sont tous installés ensemble pour créer une unité de traitement entièrement fonctionnelle. Le procédé photorésist commence par la chambre de prétraitement qui est mise en place pour prétraiter la surface des plaquettes. Il s'agit de nettoyer les plaquettes pour éliminer les particules, oxydes et/ou contaminants qui pourraient être présents avant l'application du matériau résineux. La chambre de prétraitement assure un contrôle chimique et la délivrance précise de diverses solutions de nettoyage et d'agents de gravure pour obtenir une adhésion maximale de la résine photosensible, selon le type de substrat. La résine photosensible est ensuite projetée sur les plaquettes dans le poste de projection PR. La station de pulvérisation dispose d'un pulvérisateur de précision motorisé, d'un générateur RF à fréquence variable et d'une chambre de séchage à air chauffé qui peut s'accoupler avec des chauffages externes pour un meilleur contrôle des temps de séchage du film de résistance. Le générateur RF est utilisé pour contrôler le dépôt de la résine photosensible pour l'uniformité. Une fois la résine photosensible appliquée et séchée, les plaquettes sont transférées à l'unité de durcissement thermique rapide (RTC). Cette unité est équipée d'une unité de chauffage intégrée et d'une chambre unique avec programme de chronométrage réglable pour un contrôle précis des processus de cuisson. La machine RTC travaille pour réguler précisément la température de la plaquette par application. Une fois le processus de durcissement terminé, les plaquettes sont transférées dans une chambre de post-durcissement, qui peut fournir des cycles supplémentaires de chauffage ou de séchage lorsque nécessaire pour améliorer l'intégrité du film. 430S-5-1-ML-WP Photoresist Tool dispose d'une architecture intuitive et conviviale avec des instructions étape par étape claires pour chaque étape du processus photoresist. L'intégration de chambres de procédés indépendantes et la livraison précise de produits chimiques de nettoyage, de films de résistance et de temps de durcissement en font un excellent choix pour les applications de photolithographie haut de gamme.