Occasion SEMITOOL 460S #151779 à vendre en France

SEMITOOL 460S Photoresist Equipment est un système entièrement automatisé de planarisation mécanique chimique (CMP) conçu pour assurer le traitement chimique/mécanique des substrats. Il est équipé de supports de plaquettes de précision et de modules de nettoyage automatisé, de pré-nettoyage, de CMP, de post-nettoyage et de séchage. L'interface graphique conviviale permet une optimisation et une configuration faciles des processus. 460S est équipé d'un fût à six poches pour le traitement des substrats jusqu'à 8 "de diamètre. Les têtes CMP sont suspendues avec des coussins gonflables, permettant une répartition égale de la pression sur toute la surface de la plaquette. Le support de plaquette est protégé des interactions chimiques/substrat par une enceinte de procédé, qui est inversée entre chaque étape pour maintenir la plus grande cohérence du procédé. Les têtes CMP sont conçues avec un bloc de carbure amovible pour régler l'intervalle entre la plaquette et la tête. SEMITOOL 460S Photoresist Unit dispose d'un programme de commande de machine réglable qui permet des vitesses d'épuration, des pressions et des vitesses de tête CMP définies par l'utilisateur. L'unité dispose également d'une pression de chambre fixe comprise entre 0,3 psi et 0,6 psi, ce qui permet d'obtenir une cohérence de tranche à substrat. L'outil est capable de mesurer et de surveiller les données de processus telles que la pression des actifs, le volume du réservoir et la vitesse de la pompe, fournissant des résultats en temps réel. La technologie unique de nettoyage à double digestion garantit les résultats de CMP de la plus haute qualité et l'uniformité du processus de polissage. L'interface graphique conviviale permet une planification et une optimisation des processus faciles. En outre, le modèle comprend un contrôleur d'automatisation intégré, un logiciel PC et une bibliothèque complète de recettes téléchargeables. 460S Photoresist Equipment est conçu pour réduire les coûts d'exploitation en fournissant une productivité maximale et des résultats CMP de haute précision. C'est une solution idéale pour des applications dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, MEMS et MEMS. Le système est capable de traiter un large éventail de substrats et de matériaux, ce qui en fait un choix idéal pour de nombreuses applications de production à haut volume.