Occasion SEMITOOL 480S #9229853 à vendre en France

SEMITOOL 480S est un équipement de photorésistance utilisé pour modeler des substrats avec photolithographie. Le système est conçu pour un environnement de production à haut volume et est capable de répondre aux exigences pour de nombreuses applications avancées de circuits intégrés (IC). 480S dispose d'une unité d'exposition excimère double faisceau de haute qualité. Cette machine utilise une gamme de longueurs d'onde incluant 248 nm et 193 nm de rayonnement ultra-violet, permettant à l'utilisateur de sélectionner les paramètres d'exposition les plus appropriés pour une photorésist donnée. L'unité comprend également un bras robotique intégré pour un positionnement précis du substrat pendant le processus d'exposition. SEMITOOL 480S est équipé d'une chambre plasma basse température pour le nettoyage plasma post-couche. Cette chambre est destinée à nettoyer les substrats avant l'application de la résine photosensible, en assurant une surface lisse et uniforme pour une uniformité maximale des résultats. Lors du nettoyage plasma post-couche, les substrats sont exposés à un mélange gazeux ionisé à des températures inférieures à celles utilisées dans les procédés de gravure classiques. Ceci permet à la chambre de nettoyer la surface du substrat sans causer de dommages. 480S est équipé d'un appareil photo haute résolution pour l'alignement lithographique. Cet actif utilise un ensemble de capteurs CCD pour permettre un alignement précis et précis du substrat sur le motif d'exposition. Le modèle utilise également des caractéristiques d'alignement bidimensionnelles pour s'assurer qu'il n'y a pas de distorsion dans la fixation du substrat. SEMITOOL 480S comprend également une unité de gravure de spin qui est utilisée pour déposer de la résine photosensible sur le substrat. L'équipement est capable de déposer de la résine photosensible d'épaisseurs variables, avec une épaisseur maximale de 8,5 microns. Après dépôt, le substrat est soumis à un procédé de cuisson post-sèche qui améliore encore l'adhésion de la résine photosensible au substrat. Enfin, 480S peut être utilisé à la fois pour la pré-cuisson et la post-cuisson du substrat. La pré-cuisson a pour but de réduire encore la tension superficielle du substrat, ce qui va augmenter l'adhérence de la résine photosensible et améliorer la définition du motif. Après cuisson, le motif photorésist peut être durci et prêt à l'application. Dans l'ensemble, SEMITOOL 480S est un système avancé capable de gérer une variété de processus photorésistants avancés. Sa conception sophistiquée et l'utilisation de technologies haut de gamme lui permettent de fournir des résultats précis avec une excellente uniformité. Cela en fait un choix idéal pour une production à haut volume et des applications IC avancées.