Occasion SEMITOOL 8300S #293755283 à vendre en France

SEMITOOL 8300S est un équipement de traitement de photorésistance conçu pour fournir des résultats précis de gravure et de dépôt sur une grande variété de substrats. Il offre un contrôle de processus avancé, permettant des résultats de haute qualité et des temps de processus cohérents avec chaque lot. La machine SEMITOOL 8300 S permet des résultats rapides et précis grâce à une surveillance intelligente des lots. Le système comprend un certain nombre d'outils différents pour gérer de nombreux types de tâches, y compris le spin, la pulvérisation, le scribe et les applications pneumatiques. 8300-S est équipé d'une unité de gravure modulée au laser entièrement automatisée qui offre des temps de traitement courts, un contrôle de gravure précis, et une large gamme de réglages de gravure pour répondre à différentes applications de substrat. La chambre peut accueillir jusqu'à 10 charges en pleine zone. Une source de plasma pulsé élimine les contaminants organiques non métalliques pour de meilleurs résultats de gravure, et le revêtement photorésist est facilement réalisé avec les processus de spin monocouche, trizone ou multicouche. La machine dispose également d'un vaporisateur 4 zones conçu pour déposer des couches minces et des revêtements homogènes, ainsi que d'un scriber 5 zones qui fournit des paramètres de gravure précis pour chaque type de matériau. 8300 S comprend également un poste de conduite pneumatique pour le nettoyage post-process et le dépôt de couches pulvérisables. Tous les outils de processus indépendants sont équipés de soupapes de sélection de gaz intégrées et de paramètres de contrôle de processus. Dans l'ensemble, SEMITOOL 8300-S est un outil avancé de traitement des photorésistances qui offre des capacités précises de gravure, de dépôt et de nettoyage sur un large éventail de substrats, y compris des plaquettes, des substrats et d'autres pièces délicates. Son contrôle de processus avancé et ses multiples outils offrent des performances et des résultats optimaux, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement de photorésist à haut volume et à faible volume.