Occasion SEMITOOL 840F #151787 à vendre en France
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ID: 151787
Taille de la plaquette: 4"
Spin rinse dryer, 4"
101 Controllers Digital
Ferro Fluidic Seal
Brushed Motor
Electro polished Bowl Finish
Polypropylene Cabinet “Aero Style” : New
Color coded pneumatic lines
Resistivity Option
CE door lock requirement
Rotors (1-2”, 1-4”) 4 bolt
Complete Documentation Package
Guaranteed Particle counts < 25 at 0.3 micron
Manufactured and Qualified with 17 meg Ohm DI water and class 1 N2
Shipping Crate.
SEMITOOL 840F est un équipement avancé de traitement du lisier pour les photorésistants. Ce système est conçu pour le développement de photorésistances, la photolithographie, la gravure et le nettoyage, et est adapté à une variété d'applications de semi-conducteurs. L'unité dispose d'une machine de dosage de précision et de capacités de contrôle de volume avancées, permettant des applications de lisier précises et reproductibles. Il en résulte une productivité plus élevée et des résultats plus fiables avec des temps de cycle réduits. Une plate-forme de contrôle robuste assure des revêtements photorésistants précis et reproductibles et des fonctions de rinçage, ce qui donne des résultats fiables et cohérents. 840F est équipé de quatre pompes à dispersion haute performance, qui permettent une distribution uniforme de la résistance pour des films minces cohérents. Cet outil a également un atout de livraison contrôlé par la température, qui assure que la résistance reste dans des températures et des viscosités précises pour un revêtement fin précis. Le modèle est caractérisé par une agitation à double action du canon, qui permet un mélange précis de boues photorésistantes, permettant une meilleure uniformité et répétabilité. En outre, la capacité de lavage à double passage améliore la résistance à l'uniformité du revêtement et élimine la nécessité d'une étape manuelle de rinçage. SEMITOOL 840F est conçu avec un équipement d'alarme robuste qui avertit l'opérateur si des composants sont hors de tolérance ou si une défaillance du système s'est produite. Il dispose également de capteurs automatiques d'auto-étalonnage et de niveau de fluide, permettant à l'unité de rester précise sans étalonnage manuel. La conception de la machine assure une contamination minimale des particules et réduit les temps d'entretien et d'arrêt, ce qui permet une disponibilité prolongée des outils et des produits. La plate-forme est également compatible avec une grande variété de produits chimiques et de formulations de lisier, permettant un fonctionnement personnalisable. 840F est un actif avancé de traitement du lisier pour les photorésistes qui convient à de nombreuses applications de semi-conducteurs. Sa conception de pointe dans l'industrie fournit un dosage de haute précision, une agitation à double action du canon, une capacité de lavage à double passage et un modèle de livraison contrôlé par la température, assurant une efficacité, une répétabilité et une fiabilité maximales.
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