Occasion SEMITOOL 860F #84179 à vendre en France

SEMITOOL 860F est un équipement de photorésistance utilisé principalement dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système comprend une tête de photo et un bras robotique personnalisé pour contrôler avec précision le placement du masque et du substrat, permettant un revêtement photorésist uniforme et efficace de motifs extrêmement petits et complexes. L'unité offre également une variété d'options, y compris un plateau de refroidissement à quatre étages et un plateau de solvant chauffé, ainsi que des couches de spin, des couches de spray et une surveillance en temps réel de la température, de la pression et d'autres conditions variables des plaquettes. 860F machine peut supporter des processus solvants tels que la méthylisobutylcétone (MIBK) et 2-Methylisobutylketone (MIBK II) ainsi que des systèmes à haute teneur en solides tels que polyimide, polyuréthane et solutions d'oxynitrure de silicium. L'outil offre également une technologie de pulvérisation avancée, telle que l'électrostatique, la taille variable du trou de la buse, l'écoulement uniforme, et la formation faible d'aérosols. Ce contrôle de précision permet d'enduire de manière fiable des caractéristiques difficiles à revêtir, telles que des couches de contact perméables, ainsi que de tracer des petites caractéristiques et des structures de circuits, telles que des cellules mémoire SRAM. En outre, SEMITOOL 860F dispose d'un distributeur de faible valeur k pour améliorer l'uniformité des processus, et ses contrôles avancés permettent une optimisation facile des processus. L'actif prend également en charge les tailles des fonctionnalités de 0,18 à 5um, éliminant le besoin d'alignement manuel du masque. 860F présente des caractéristiques de sécurité telles que les fours de cuisson en deux étapes, les purges à gaz réglables et la construction de bas-ESD, ce qui en fait un outil de procédé photorésist fiable et sûr. En résumé, SEMITOOL 860F est un modèle de résine photosensible robuste conçu pour permettre un traitement économique, fiable et à haute résolution de motifs complexes et de caractéristiques délicates, adapté aux procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus avancés.