Occasion SEMITOOL 880S #9774 à vendre en France

SEMITOOL 880S
Fabricant
SEMITOOL
Modèle
880S
ID: 9774
Rinser Dryers Can use low profile 8 cassette.
SEMITOOL 880S Photoresist Equipment offre le plus haut niveau de précision et de précision dans l'industrie, conçu pour enduire, exposer et enlever la photorésist dans des conditions à la fois structurées et planaires. Il s'agit d'un système entièrement automatisé à double colonne capable de supporter jusqu'à huit charges de cassettes. SEMITOOL 880 S fournit à la fois des réservoirs de stockage de produits chimiques et des systèmes de resurfaçage de plaquettes qui augmentent la répétabilité des processus et la fiabilité des unités. 880-S La machine photorésist se compose d'un poste de revêtement thermique haute température, haute pression, d'un récipient de résiste et d'un poste de travail contrôlé par l'environnement. La station de revêtement thermique utilise une technique unique de mélange de gaz pour appliquer la résine photosensible uniformément sur une grande surface de matériaux monocouche ou multicouche. Le récipient en résine permet un positionnement et une rétention précis de la résine photosensible et fournit une mesure automatisée de haute précision pour un dosage précis de résine photosensible sur des plaquettes. La chambre environnementale ajoute uniformité et stabilité au processus et est équipée d'un puissant outil de climatisation pour un contrôle environnemental complet. 880 S comprend également un logiciel d'imagerie de pointe qui permet une exposition rapide et précise de la résine photosensible. Le logiciel permet l'alignement du masque sur la cible et un contrôle optimisé du processus d'exposition incluant le choix des conditions et paramètres d'exposition. L'actif dispose également de modules post-cuisson, bande et développeur robustes et fiables qui fournissent un traitement précis et cohérent de la résine photosensible. Ensemble, ces caractéristiques de 880S offrent une précision et une répétabilité supérieures, tout en réduisant les pertes et le temps de cycle. Ce modèle est idéal pour les applications de photolithographie dans les installations de R&D et de production à haut volume. Il peut traiter des résistances à grande échelle sur une large plage de température avec une résistivité chimique élevée, assurant d'excellents résultats de processus.
Il n'y a pas encore de critiques