Occasion SEMITOOL CD-E1/750 #159333 à vendre en France

SEMITOOL CD-E1/750 est un équipement de photorésistance performant conçu pour optimiser les cycles de cendrage, de filage et de séchage dans la production de photomasques. Il suit les spécifications et exigences rigoureuses des procédés semi-conducteurs avancés. Le système comporte plusieurs étapes de processus automatisés tels que le polissage de la chambre de pression atmosphérique (APC), le polissage par planarisation chimico-mécanique (CMP) et le dépôt de spin-coat. L'unité photorésist intègre une technologie de contrôle avancée, y compris le vélo à cassette préprogrammé et le développement efficace de recettes. L'atmosphère dans la chambre est constamment purgée à l'azote, évitant toute contamination par l'oxygène ou l'eau. La machine est équipée de dispositifs de protection avancée contre les décharges électrostatiques (ESD) et peut être utilisée dans les salles blanches de classe 1000 et de classe 10 000 pour assurer une sécurité électrostatique totale. L'outil de photorésistance SEMITOOL CD-E1/750 est conçu pour offrir des performances supérieures, une excellente homogénéité et des résultats de haute qualité. Il est capable d'assurer une grande précision de dépôt (précision au niveau des nanomètres) sur l'ensemble du substrat. De plus, il offre un débit élevé et des performances de cendrage rapides. L'actif a également été prouvé pour réduire fortement la consommation de produits chimiques, les déchets et le temps de traitement. En outre, le modèle offre une interface conviviale qui permet une surveillance, un contrôle et un rapport précis sur toutes les étapes du processus. Les capacités d'enregistrement et d'analyse des données permettent une attention particulière aux résultats de chaque lot, et les pinces réglables et les butées de rotation permettent une adaptation et une personnalisation faciles de chaque processus. Dans l'ensemble, SEMITOOL CD-E1/750 Photoresist Equipment est un choix fiable, très efficace et convivial pour chaque procédé de fabrication de semi-conducteurs. Il est également conçu pour répondre à toutes les normes strictes, permettant une performance optimale de cendrage, de filage et de séchage dans la production de photomasques.