Occasion SEMITOOL CP04MNSPD0801 #9158970 à vendre en France

SEMITOOL CP04MNSPD0801 est un équipement photorésist Coater/Developer conçu pour le processus de fabrication de masques dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système se compose d'une chambre monobloc capable de traiter des plaquettes de 200mm, de plusieurs buses pour un contrôle précis du volume, de commandes intégrées de micro-processeurs et d'une interface utilisateur intuitive. SEMITOOL CP 04 MNSPD 0801 utilise jusqu'à 6 modules de processus pour gérer le développement, l'adhérence, le dénudage et le séchage des photorésistances. Son mécanisme de manutention des plaquettes est robuste et fiable, ce qui permet à l'opérateur d'ajuster rapidement et avec précision le chargement et le déchargement des plaquettes. La chambre de CP04MNSPD0801 est capable d'une pression de vide aussi faible que 1 Torr et une température jusqu'à 65 degrés Celsius. Une unité de vide intégrée maintient la pression requise pour une résistance optimale au revêtement ou au développement. Le microprocesseur intégré est utilisé pour contrôler les modules de processus, ajustant avec précision les paramètres de dépôt et de développement pour chaque plaquette. La pression, la température et les composants mécaniques de la chambre sont surveillés pour s'assurer qu'ils restent dans la plage spécifiée tout au long du traitement de chaque plaquette. Les buses de CP 04 MNSPD 0801 sont conçues pour un contrôle précis du volume lors du revêtement et du développement de la résine photosensible. En ajustant soigneusement les buses, on peut créer sur la surface de la plaquette des films photorésistants d'épaisseur et d'uniformité constantes. L'interface utilisateur intégrée permet à l'opérateur de sélectionner facilement et rapidement les paramètres souhaités pour le revêtement et le développement d'une plaquette donnée. Chaque plaquette est ainsi revêtue et développée avec la même uniformité et la même qualité. SEMITOOL CP04MNSPD0801 est une photorésist de pointe Coater/Developer conçu pour le revêtement de résistance rapide et précis et le développement sur plusieurs plaquettes. Sa conception robuste et fiable permet un dépôt uniforme et un contrôle précis des modules de procédé. Son microprocesseur intégré et son interface utilisateur permettent à l'opérateur d'ajuster de manière fiable les paramètres souhaités du processus de la plaquette. Grâce à sa capacité à maintenir une pression de vide et une température optimales, SEMITOOL CP 04 MNSPD 0801 est capable de fournir un traitement fiable et répétable des plaquettes pour le revêtement et le développement de résines photosensibles à haut volume.