Occasion SEMITOOL ECP LT210 CU #9038305 à vendre en France

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ID: 9038305
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
CMP - Cu plating system, 8" (10) Chambers Module: CMP/CU SMIF interface: (2) Asyst indexers Process application: copper plating Copper process: yes Batch/single wafer: single wafer Electrochemical copper deposition in diluted CuSO4/H2SO4 solution with organic additives Backside cleaning and bevel etching with diluted PIR-Solution (6) Plating chambers (4) Bevel etch capsules External chemical Conc. Control by support tool Capable of Pulse-Reverse-Plating and DC-Plating and Hot-Entry ECD Chamber Retrofit: Wet contact rings and finger clean for ext. ring lifetime Photometric insitu analysis: Cu and H2SO4 Robot Beam Capsule Retrofit: fingerless rotors Capsule Retrofit: one piece delivery manifold Modified bowl return-flow for bubble suppression M&W Systems chiller Dynatronix Power Supply Upgrade Capsules: adjustable flowmeters for chemical supply UPS-Retrofit: Data Saving in case of power loss) Plating rotors with extended wafer supporting posts Currently crated CE marked 1999 vintage.
SEMITOOL ECP LT210 CU est un équipement photorésist de nouvelle génération conçu pour la fabrication de plaquettes et le traitement photochimique. Ce dispositif est doté d'un design de pointe qui permet une gravure efficace et des procédés de revêtement photorésist. Il est équipé d'une chambre de gravure LT210 CU, qui est un outil d'exposition en flux descendant, permettant à l'utilisateur d'appliquer uniformément la résine photosensible sur l'ensemble de la plaquette avec des épaisseurs variables. La chambre de gravure LT210 CU utilise une chambre étanche basse pression avec disque tournant, qui maximise l'exposition et accélère les temps de traitement. Le système est équipé d'une unité d'exposition avancée avec des lampes indigo qui produit une grande quantité d'énergie rayonnante, assurant une exposition uniforme sur la surface de la plaquette. La machine d'exposition comprend également des capacités de mise au point dynamique, permettant un meilleur contrôle des paramètres d'exposition, ce qui permet un contrôle supérieur du processus. En outre, l'outil d'exposition dispose d'une alimentation numérique à fréquence réglable, permettant un contrôle précis du processus d'exposition. L'actif dispose également de Smart Track Software, qui permet à l'utilisateur de contrôler et de surveiller les paramètres du processus, tels que les photosettings et le dosage du rayonnement, à partir d'un modèle informatisé centralisé. Ce logiciel est également capable de surveiller et de régler l'alimentation électrique en vol ainsi que de fournir des données détaillées sur les statistiques de processus. En outre, l'équipement est équipé de deux ensembles de programmes correspondant à des processus photorésistants positifs et négatifs. Cela permet aux utilisateurs non seulement de revêtir la plaquette de photorésists négatifs et positifs, mais aussi de les enlever avec la même précision. La chambre de gravure LT210 CU comprend également un système de contrôle de température de haute précision pour garantir des températures de traitement optimales. En conclusion, l'unité de photorésistance ECP LT210 CU est une machine de photorésistance évoluée, polyvalente et conviviale, qui offre un contrôle de processus supérieur et d'excellents résultats d'exposition. Il est adapté à une variété de procédés photochimiques, tels que le nettoyage élevé et résiste à la gravure, fournissant une solution de fabrication à haut rendement et coût-efficacité à ses utilisateurs.
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