Occasion SEMITOOL Paragon #293592805 à vendre en France

Fabricant
SEMITOOL
Modèle
Paragon
ID: 293592805
Taille de la plaquette: 12"
ECD Plating system, 12" (2) FOUP WIP Anneal chamber ULVAC Metrology unit (2) CFD Chambers with in-situ rinse RTA Probe Pump Bleed bath recovery (2) Capsule chambers with cooling coils Heated N2 Sample port Tank with AMCS connections Power supply: 480 VAC, 125 A, 50/60 Hz.
SEMITOOL Paragon est un équipement « photorésist » développé par SEMITOOL, Inc. pour créer des caractéristiques extrêmement fines dans les semi-conducteurs. Le système utilise un masque-aligneur de haute précision capable d'imager des motifs sur un substrat semi-conducteur avec une précision exceptionnelle. Le procédé commence par un photomasque contenant le motif à transférer sur le substrat. Ensuite, un morceau spécialisé de photomasque est placé au-dessus du substrat, et la lumière brillant à travers le masque est utilisé pour créer le motif désiré. L'unité photorésist de Paragon est composée de deux équipements principaux : le Photo Aligner et le Développeur. Le Photo Aligner est composé d'une étape d'alignement, d'un porte-haut et d'un illuminateur. L'étage d'alignement contrôle la précision avec laquelle le photomasque est aligné sur le substrat, tandis que le support supérieur fournit une surface lisse sur laquelle le photomasque peut se déplacer. L'illuminateur utilise des sources lumineuses photorésistantes, y compris visibles, UV et IR, pour permettre la création de caractéristiques extrêmement fines. Le développeur est conçu pour l'enlèvement et la fixation du matériau photorésist. Après que le matériau photorésist a été exposé au motif désiré, il doit être nettoyé de la surface et une nouvelle couche de photorésist doit être appliquée. Pour ce faire, le développeur utilise un banc humide qui utilise des bains chimiques pour enlever et fixer la résine photosensible. SEMITOOL photorésist Paragon est conçu pour permettre la création précise et répétable de motifs de semi-conducteurs avec de petites tailles et caractéristiques. L'outil fournit une précision jusqu'à 45nm avec un haut débit et un contrôle de la taille des fonctionnalités. Le masque-alignement de l'actif permet un alignement extrêmement précis du photomasque sur la plaquette pour augmenter encore la précision. En outre, le modèle permet l'utilisation d'une variété de photorésistances, assurant que les tailles de caractéristiques souhaitées peuvent être atteintes.
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