Occasion SEMITOOL PSC-101 #293746635 à vendre en France

SEMITOOL PSC-101 Photoresist Equipment est un banc humide chimique conçu pour la manipulation, le développement et le décapage de photorésistes et de solutions de photorésist pour dispositifs semi-conducteurs. Le SEMITOOL PSC 101 dispose de capacités d'immersion à réservoir unique avec un système de livraison chimique qui a été conçu avec des capacités de distribution de haute précision et de faible volume. Il est équipé de deux chauffages sans entretien et à température contrôlée pour assurer une gravure optimale, résister au strippage et la gestion des propriétés des films en solution chimique tout en surpassant les exigences de plusieurs protocoles de traitement IC. Tous les processus sont programmables par l'utilisateur, ce qui permet de contrôler toutes les variables connexes telles que la pression, la température, le débit et la durée totale du processus. PSC-101 dispose également d'une unité à double drain avec support de réservoir acide et DI ainsi que d'une machine de filtration des particules métalliques (magnétiques) pour l'élimination automatisée des particules d'oxyde métallique et d'autres contaminants, ce qui réduit les coûts de déchets et de traitement. Capable de manipuler des substrats jusqu'à une taille de 8 "de diamètre, PSC 101 est une machine compacte et flexible qui peut être facilement intégrée dans les systèmes de fabrication de photomasques, de plaquettes et de masques existants. SEMITOOL PSC-101 est hautement programmable et offre une évolutivité permettant aux utilisateurs d'adapter l'outil aux exigences exactes de leur application. SEMITOOL PSC 101 est équipé de plusieurs capteurs pour surveiller en permanence l'intégrité de l'actif et assurer un traitement cohérent de la résine photosensible. Le modèle est également équipé d'une puissante interface de télécommande à quatre canaux pour se connecter à des systèmes externes de contrôle des processus. Avec une configuration de rinçage-buse aqueuse, un indicateur de niveau liquide ainsi qu'un wafer-indexer composé, PSC-101 est capable d'une gamme de techniques de traitement. En outre, l'équipement est conçu avec un système de sécurité intégré pour protéger les utilisateurs et les produits chimiques sensibles. Le PSC 101 offre une solution flexible et efficace pour la synthèse et le traitement de photorésist qui peut être facilement adaptée aux exigences des applications semi-conductrices avancées telles que la fabrication de pales pré-photoniques, la fabrication intégrée de dispositifs photoniques ou le micromachinage. Sa chambre de traitement haute résolution, son appareil de dosage chimique précis et sa compatibilité avec plusieurs systèmes externes de contrôle des processus en font un choix idéal.