Occasion SEMITOOL PSC-102 #9400846 à vendre en France

SEMITOOL PSC-102 est un équipement de traitement de photorésistance avancé conçu pour le traitement des plaquettes semi-conductrices et d'autres applications avancées de photolithographie. C'est un système entièrement automatisé en ligne qui offre un contrôle supérieur des processus, une réduction des temps d'arrêt et une flexibilité accrue des processus. L'unité utilise deux grands sous-systèmes, la chambre de gravure humide et la chambre de spin-coater, pour fournir un environnement de traitement photorésist complet. La chambre de gravure humide du SEMITOOL PSC 102 utilise une solution réactive pour éliminer une couche de résine photosensible de la surface du substrat d'une plaquette. Ceci est accompli par une combinaison de décapage mécanique et chimique. La chambre abrite une plate-forme tournante programmable de précision qui facilite la rotation uniforme de la plaquette, tandis que les buses de précision distribuent la solution de gravure. Les LED ultraviolettes dans la chambre fournissent l'exposition nécessaire aux couches de photorésist et permettent ainsi une résolution plus élevée dans les limites gravées. Le procédé de gravure est encore amélioré par l'utilisation d'évents de gaz programmables, ce qui facilite une gravure très uniforme sur toute la surface de la plaquette. La chambre de spin-coater est conçue pour le dépôt uniforme d'une couche mince de résine photosensible sur la surface de la plaquette. La chambre abrite une plate-forme motorisée de précision pour une rotation uniforme des plaquettes et est équipée d'une machine de distribution de liquide pour une livraison de solution précise. La chambre de spin-coater est en outre équipée d'une turbomachine et d'un outil de distribution de gaz pour un meilleur contrôle de l'environnement atmosphérique et des dépôts photorésistants. Un appareil photo numérique et une optique améliorée aident à l'inspection du processus afin d'assurer des résultats optimaux. PSC-102 est un actif avancé de traitement de la photorésistance, fournissant une plate-forme efficace et automatisée pour la photolithographie et la fabrication de semi-conducteurs. Il offre un contrôle de processus supérieur et fiable, des temps d'arrêt réduits et une flexibilité de processus accrue pour améliorer le rendement du produit. Le modèle est idéal pour les applications avancées de photolithographie et est bien adapté à la fois pour le volume élevé et les besoins de traitement de petites plaquettes.