Occasion SEMITOOL Raider ECD 10 #9211215 à vendre en France
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ID: 9211215
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Electro chemical deposition system, 12"
2007 vintage.
SEMITOOL Raider ECD 10 est un équipement de revêtement photorésist qui fournit un revêtement photorésist complet, répétable et intégré de substrats jusqu'à 10 "de diamètre. Le système peut accueillir jusqu'à 16 plaquettes par lot et est conçu pour assurer un revêtement uniforme sur toute la surface du substrat avec une répartition même bord à bord. Raider ECD 10 utilise un design de pulvérisation à double tête qui offre une largeur de revêtement impressionnante allant jusqu'à 600 mm. Les têtes de développement disposent de jets de pulvérisation radiaux uniques qui permettent une couverture totale de la plaquette par un mouvement de balayage. Cette solution assure l'uniformité du processus de revêtement et la couverture globale de la surface. SEMITOOL Raider ECD 10 est équipé d'un contrôleur PC qui fournit un contrôle complet des processus. Il est capable de contrôler des paramètres individuels de la tête de pulvérisation tels que la pression, la vitesse de solution, la largeur et la surpression qui assure une distribution précise dans les zones d'intérêt sur la plaquette. Ce programme de menu facile à naviguer enregistre également jusqu'à 50 recettes de processus ainsi que des rapports standard liés au processus et à la performance. Raider ECD 10 est construit avec des matériaux supérieurs qui offrent une durabilité exceptionnelle et une sécurité intrinsèque pour l'utilisateur. Le boîtier de la buse est en acier inoxydable pour assurer une durée de vie plus longue et la buse est en céramique pour réduire l'usure chimique. réduire l'usure chimique. La chambre de l'unité est également scellée avec de l'acier inoxydable double couche pour une sécurité maximale. Enfin, SEMITOOL Raider ECD 10 est conçu pour être polyvalent et compatible avec une variété de produits chimiques et de masques. La machine nécessite un entretien minimal et peut facilement être ajustée pour des exigences de processus spécifiques.
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