Occasion SEMITOOL Raider #293600285 à vendre en France
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ID: 293600285
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Systems, 12"
(8) Chambers
Substrate: Si, 12"
Chiller
DHF Mix tank
CO2 Bottle
S2 Computer
502SE Controller
Remote PPS
MARATHON Standard
Automation:
Type: (2) FOUP WIP (PGV compatible)
COAXIAL HT Robot
STI Robot controller
End effect controller:
Edge grip
Wet transfer edge grip
FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000
HERMOS RF Tag reader
Vacuum source
Wafer protrusion sensor
Process module:
CPC 1, 10, 12
Process: SRD / Prewet
PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03
Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge
Bulk fill supply with filter, 5"
IW Drain
Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05
CPC 2
Process: Ni plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction (mechanical)
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 3, 4, 9
Process: Solder plating (eutectic)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
CPC 5, 6, 7, 8
Process: Solder plating (high lead)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 11
Process: Cu Plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 111T1197-01
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 50-55°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample Port
CPC 2
Ni Plating solution
Carbon polishing filter
Conditioning electrodes
pH Monitor
Sight tube
Power supply
Tank 2: High lead solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample Port
CPC 5, 6, 7, 8
Chemical: High lead plating Solution
Sight tube
Tank 3: Eutectic solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample port
CPC 3, 4, 9
Chemical: Eutectic plating solution
Sight tube
Tank 4: Cu
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample port
CPC 11
Cu Plating solution
Sight tube
Drains:
IW
Eutectic
Hi lead
Ni
Cu
Process:
Cu
Ni
Eutectic
High lead plating
Options:
(3) Heater chillers
AARU
Dl Booster pump cabinet and Interface
Power supply: 480 V, 4 Wire, 3 Phase
2008 vintage.
SEMITOOL Raider est un équipement photorésistant lancé en 2001 par le fabricant d'équipements semi-conducteurs SEMITOOL. Le système utilise un revêtement pulvérisateur pour déposer une couche de résine photosensible sur des plaquettes semi-conductrices pour des procédés ultérieurs de fertilisation. Raider dispose de plusieurs composants contrôlés par ordinateur, dont un porte-charge, un bras de pulvérisation et une unité de contrôle des particules. SEMITOOL Raider traite jusqu'à 50 plaquettes par heure et produit des profils de résistance uniformes sur toute la surface de la plaquette. Il décharge les plaquettes d'une cassette, les transporte au bras de pulvérisation, dépose la couche de résine et les transporte à un convoyeur externe. Le bras de spray est capable de s'appliquer les couches (100-200nm) minces de SU-8 résistent. L'unité de contrôle des particules assure que les particules ne contaminent pas la résine photosensible et assure un revêtement uniforme de la résine. Il surveille la concentration d'oxygène, l'humidité, la température et la pression dans la chambre de pulvérisation, ainsi que la concentration de particules dans l'environnement. Raider dispose également d'une unité autofocus qui lui permet de maintenir une focalisation constante sur toute la surface de la plaquette. SEMITOOL Raider dispose de nombreuses caractéristiques de sécurité qui protègent contre des facteurs externes tels que l'accumulation statique d'électricité et les gaz d'échappement. Chacun de ses systèmes peut être calibré individuellement pour une précision maximale et le bras de pulvérisation est entièrement motorisé pour un contrôle et une précision maximum. Raider est une machine modulaire, capable de mettre à niveau son électronique et ses composants avec le temps. Il a été conçu de manière à lui permettre de traiter des plaquettes de diamètres allant de 1 à 12 pouces. SEMITOOL Raider est un outil fiable de choix pour les applications photorésistantes dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est de faible entretien et peut traiter de grands lots de plaquettes régulièrement sans nécessiter une quantité excessive de supervision. Il produit des couches minces et uniformes de résistance et assure que l'environnement reste propre et exempt de particules. Raider a été construit en tenant compte de la sécurité de l'utilisateur et ses différentes fonctionnalités de sécurité garantissent que les opérateurs restent en sécurité en tout temps.
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