Occasion SEMITOOL / RHETECH Spin Rinse Dryer (SRD) #293761635 à vendre en France

A RHETECH Spin Rinse Dryer (SRD) est un composant crucial de l'équipement de photorésistance utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. L'équipement SRD est conçu pour fournir un processus de nettoyage et de séchage complet et efficace pour les plaquettes après les étapes de photolithographie. Ce système est indispensable pour assurer la fiabilité et la qualité des dispositifs semi-conducteurs en éliminant les impuretés et les résidus photorésistants de la surface de la plaquette. La fonction principale de l'unité SRD est d'effectuer une séquence de cycles de rinçage, de spin et de sec sur les plaquettes pour éliminer tout photorésist ou produit chimique restant utilisé dans le processus de photolithographie. Le séchoir à rinçage au spin y parvient grâce à une combinaison de force centrifuge, de flux gazeux purgé et d'éléments chauffants contrôlés pour obtenir un niveau élevé de propreté et de qualité de surface sur les plaquettes. Le fonctionnement de la machine SRD commence par le chargement des plaquettes sur le mandrin de spin. Le mandrin de spin maintient solidement les plaquettes en place et facilite la rotation des plaquettes à des vitesses élevées pendant le processus de nettoyage. Une fois les plaquettes en place, une série de buses de rinçage distribuent de l'eau désionisée ou une autre solution de nettoyage appropriée sur la surface de la plaquette. Au fur et à mesure de la rotation du mandrin de spin, la force centrifuge générée force la solution de rinçage à se répandre uniformément sur la plaquette, ce qui assure un rinçage efficace des photorésistances résiduelles ou des contaminants. La vitesse de rotation contrôlée et la pression de pulvérisation assurent un nettoyage complet sans endommager les structures semi-conductrices délicates de la plaquette. Une fois la phase de rinçage terminée, le séchoir à rinçage au spin initie le cycle de spin. La rotation rapide de la plaquette provoque un excès d'eau et de solution de nettoyage sur la surface, laissant la plaquette presque sèche. Cette étape est essentielle pour prévenir les filigranes, les taches ou autres défauts pouvant résulter d'un séchage insuffisant. Dans la dernière étape du procédé, l'outil SRD utilise une combinaison de débit de gaz chauffé et de rotation continue pour évaporer toute humidité restante de la surface de la plaquette. Les éléments chauffants commandés assurent un séchage efficace des plaquettes sans les soumettre à des températures excessives qui pourraient endommager les structures semi-conductrices. SEMITOOL Spin Rinse Dryer (SRD) est équipé de systèmes de contrôle et de surveillance avancés pour maintenir des paramètres de processus précis et assurer des résultats de nettoyage et de séchage cohérents sur plusieurs plaquettes. La surveillance en temps réel de paramètres clés tels que la vitesse de spin, le débit de rinçage, la température et le temps de séchage permet d'affiner le processus de nettoyage pour répondre aux exigences spécifiques des différents procédés de fabrication des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, l'actif SRD joue un rôle essentiel pour assurer la qualité, la fiabilité et la performance des dispositifs semi-conducteurs en fournissant une solution de nettoyage et de séchage très efficace pour les plaquettes post-photolithographie. Sa conception avancée et ses mécanismes de contrôle de précision en font un outil indispensable dans l'industrie des semi-conducteurs.