Occasion SEMITOOL / RHETECH ST 270 #293594925 à vendre en France

ID: 293594925
Style Vintage: 2010
Spin Rinse Dryer (SRD) Wafer cassette, 6" A182-60MB-0215 Teflon carrier, 6" (25-Slots) PSC-107 Controller Table included 2010 vintage.
SEMITOOL/RHETECH ST 270 est un outil essentiel pour l'industrie de la transformation des substrats. C'est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour créer des couches structurées sur des plaquettes semi-conductrices et d'autres substrats pour des applications telles que les composants microélectroniques et la production de dispositifs microfluidiques. Il a trois composants de base : une pellicule, un film chromé ou sensible à la lumière, et une unité de contrôle. La pellicule sert de fenêtre pour irradier le substrat avec de la lumière et contient une ouverture qui sert à limiter l'intensité lumineuse. Le film chromé ou sensible à la lumière est un matériau photosensible qui est filé sur le substrat. Lorsqu'il est exposé à la lumière, le matériau photosensible réagit et modifie sa formation chimique pour former un motif désiré. Le contrôleur permet d'affiner les paramètres d'irradiation. Le système de photorésistance RHETECH ST 270 possède plusieurs fonctionnalités conçues pour améliorer le contrôle des processus. Il peut être opéré en mode non destructif, permettant des expositions multiples et le test du substrat pendant son traitement. De plus, une unité de reconnaissance d'étages de plaquettes est incluse pour maximiser la précision du processus. La machine permet un alignement précis de la zone irradiée sur le substrat pour obtenir des motifs complexes nécessaires à la fabrication du dispositif. Sa capacité de balayage dynamique haute résolution permet des tailles de fonctionnalités plus petites et une précision de frappe plus fine. En outre, la capacité de balayage à grande vitesse de l'outil permet des temps de cycle de processus plus courts. SEMITOOL ST 270 propose également des filtres optiques optionnels et des logiciels de reconnaissance de motifs dans le cadre de son interface de télécommande. Cela permet aux utilisateurs d'affiner les paramètres d'exposition de l'actif et d'ajuster ses paramètres pour optimiser le processus. Il dispose également d'une option de nettoyage in situ qui est effectuée avant la réexposition du substrat. Le processus de nettoyage in situ réduit considérablement la défectivité du substrat. Dans l'ensemble, le modèle photorésist ST 270 est la solution idéale pour créer des motifs complexes avec un débit rapide et une reproductibilité élevée. Il a une variété de fonctionnalités avancées qui permet aux utilisateurs d'optimiser le processus pour leur application spécifique. Ses filtres optiques, son interface de télécommande et son option de nettoyage in situ offrent aux utilisateurs la flexibilité et la robustesse nécessaires pour des applications de haute précision.
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