Occasion SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP #9209043 à vendre en France

SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Equipment est un système de photorésistance à convection haut de gamme, conçu pour des processus de microlithographie de précision. Il est destiné au revêtement photorésist et au traitement de petits substrats tels que des masques photo haute résolution pour applications semi-conductrices et microélectroniques. S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit dispose d'une commande 3 axes, qui fournit précision et fonctionnement répétable, ainsi que d'une chambre d'accès au substrat spacieuse. Il est équipé d'une machine logicielle avancée, facile à utiliser et conviviale, et est livré avec une armoire de stockage en acier inoxydable pratique. L'outil offre une compatibilité de substrat polymérique, qui comprend des résistances liquides, sèches et recoatables. Cette polyvalence permet une variété de processus photorésistants, y compris le revêtement de spin, le revêtement de fente, et les processus d'écouvillonnage, qui sont pris en charge avec l'édition de recette complète et la répétabilité programmable automatique. De plus, l'actif SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP permet un contrôle maximal de la température du substrat, assurant la répartition la plus uniforme du matériau photorésist sur l'ensemble du substrat. S27-S-3-1-ML-WP modèle est conçu pour obtenir une précision et une répétabilité optimales des paramètres de processus. Le logiciel avancé et le contrôle de la température permettent des temps d'exposition et de développement précis. En outre, l'équipement comprend un système de contrôle de débit avancé, permettant des vitesses de rotation et des pressions précises et répétables. SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit est conçu pour répondre aux exigences évolutives des industries actuelles de la microélectronique et des semi-conducteurs, offrant aux utilisateurs des performances fiables et efficaces. Il dispose d'une surveillance complète et intégrée des processus et des défauts, ainsi que d'une construction en aluminium anodisé de haute qualité. Avec sa conception spatiale efficace, S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Machine est une solution idéale pour la production limitée dans l'espace et les paramètres de laboratoire.